X光衍射儀

X光衍射儀是一種用於材料科學、電子與通信技術領域的分析儀器，於2008年10月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：X光衍射儀
• 產地：荷蘭
• 學科領域：材料科學、電子與通信技術
• 啟用日期：2008年10月15日
• 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器 > X射線衍射儀

技術指標

高壓發生器功率：3KW；電流60mA；電壓 60kV。 X光管：陶瓷管；Cu靶。檢測器：正比充Xe氣計數器，最大計數率1,000,000cps。測角儀：θ/θ和θ/2θ方式，角度重現性±0.00010，2θ範圍-400—1700。樣品XYZ範圍：100mm/100mm/12mm，解析度0.01mm/0.01mm/0.001mm。樣品傾動角（chi）：1800，解析度＜0.0050。樣品旋轉角（phi）：±3600，解析度＜0.0050。

主要功能

高分辨x射線衍射儀可用於半導體單晶材料結構分析、應力分析以及位錯研究，對半導體GaN，AlGaN，InN以及GaN/InGaN多量子阱結構材料進行結構，晶體完整性等測試分析。高分辨x射線衍射儀可用於半導體單晶材料結構分析、應力分析以及位錯研究。