離軸照明

離軸照是1989年光刻專家提出的離軸照明技術，並得到了很好的發展，已經得到了廣泛套用。離軸照明的原理是通過改變照明光入射到掩模上的入射角，達到擴展投影系統的截止頻率對應的圖形尺寸，從而提高光刻系統解析度的目的。

基本介紹

• 中文名：離軸照明
• 外文名：Off-axis Illumination（OAI）

如圖1所謎格海危示，在採用離軸照明的曝光系統中，掩模上的照明光線都與投影物鏡主光軸有一定的夾角。入射光經掩模發生衍射，左側光源的0級，-1級衍射光與右側光束的+1級，0級衍射光參與成像。

圖1 兩種照明方式的光路對比

離軸照明實際上是一種兩束光成像技術，即通過調驗說辨整光線在碑謎愚掩模上的入射角，只有兩束（0，+1或-1）衍射光被投影透鏡收集，並在晶圓表面成像，離軸照明的特點是沒有沿主光軸方向傳播的光。環形照明，四級照明和二級照愚鴉禁明都屬於離軸照明。研究表明，離雅煉愚察軸照明是一種很有效的光刻分辨增強技術。離軸照明最大的優點是能提高聚焦深度；離軸臘只照明最大的問題是，所收集的衍射光束是不對稱的，0級衍射光的光強欠享愚遠大於+1和-1級衍射光。