超高真空多功能磁控濺射設備

超高真空多功能磁控濺射設備是一種用於物理學、化學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2000年6月4日啟用。

基本介紹

• 中文名：超高真空多功能磁控濺射設備
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、化學、材料科學
• 啟用日期：2000年6月4日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備

技術指標

1．極限真空：7×10-6Pa2．磁控靶：Φ英寸×5隻（永磁）3．靶—基距：20—100mm4．基片架：直接水冷，可轉動5．樣品：2.6×76mm或F60mm×8（最大）6．氣路：0～10sccm，0～10sccm，0～100sccm質量流量計、共4路進氣7．電源：RF13.65MHZ600W×2（進口）DC1000W×1（進口）RF500W×2（國產）8．機械手：2隻。

主要功能

可製備各種金屬、非金屬薄膜的複合多層薄膜，特別是磁性薄膜；可進行多元共濺射，並可同時導入二種反應氣體進行反應濺射；可對基片加熱濺射和反濺射清洗。