超高真空全自動磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年12月5日啟用。
基本介紹
- 中文名：超高真空全自動磁控濺射鍍膜機
- 產地：中國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2016年12月5日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 電加工工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
1.真空室數量:雙室，包含1個樣片室，1個濺射室。2.極限真空（環境濕度≤55%，經烘烤除氣後）:？ 樣片室:≤2.0×10-3Pa？ 濺射室:≤8.0×10-7Pa3.真空室漏氣率:≤5.0×10-8Pa·L/s4.抽氣速率:系統短時間暴露大氣並充乾燥氮氣開始抽氣，濺射室30分鐘可達到5.0×10-4Pa。5.真空室保壓:系統停泵關機12小時後真空度:≤5Pa。6.濺射材料:各種金屬、合金薄膜、非金屬薄膜、化合物薄膜。7.濺射靶:Φ76.2mm標準磁場磁控濺射靶3隻，聚焦模式上置共安裝，自上向下濺射成膜。8.濺射不均勻性:≤±5%（Φ4英寸範圍內）9.濺射室規格:Φ450mm×380mm10.工件台旋轉:可自轉，轉速5~30rpm範圍內可調。11.樣品加熱:紅外加熱器，加熱溫度600℃，PID自動測溫、控溫，多段控溫模式，控溫精度±1%。12.載片量:最大Φ100mm（4英寸）1片。
主要功能
可製備包括各種金屬、半導體、鐵磁材料,以及絕緣的氧化物、陶瓷等物質的最薄可達納米層厚的薄膜，其操作簡便，穩定性好。是我院多個課題組的急需的關鍵設備之一。除滿足我院相關課題組納米薄與納米多層膜製備的需要外，還可滿足我校相關院所納米薄膜與納米多層膜製備的需求。
