脈衝雷射沉積薄膜系統

脈衝雷射沉積薄膜系統是一種用於物理學、化學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2012年12月10日啟用。

基本介紹

• 中文名：脈衝雷射沉積薄膜系統
• 用途：製備半導體材料、沉積複雜氧化物薄膜、合成新的高溫超導材料、鐵電材料、電-光和光學材料、透明導電氧化物、功能陶瓷、納米粒子、鐵磁材料等薄膜材料
• 產地：美國
• 學科領域：物理學、化學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
• 啟用日期：2012年12月10日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 熱處理加工工藝實驗設備

技術指標

真空室直徑Ф 500mm。主腔室（PLD chamber）：本底極限真空度

主要功能

製備半導體材料、沉積複雜氧化物薄膜、合成新的高溫超導材料、鐵電材料、電-光和光學材料、透明導電氧化物、功能陶瓷、納米粒子、鐵磁材料等薄膜材料。