脈衝雷射沉積腔室

脈衝雷射沉積腔室是一種用於物理學領域的分析儀器，於2017年3月28日啟用。

基本介紹

• 中文名：脈衝雷射沉積腔室
• 產地：荷蘭
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2017年3月28日
• 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器 > 雷射光譜儀

技術指標

真空度：小於10-9mbar；可放置6塊圓形靶材。

主要功能

用於在不同的襯底上沉積氧化物薄膜和異質結。