基於脈衝雷射沉積富硼B-C薄膜的關鍵技術研究

基於脈衝雷射沉積富硼B-C薄膜的關鍵技術研究

《基於脈衝雷射沉積富硼B-C薄膜的關鍵技術研究》是2017年科學出版社出版的圖書,作者是章嵩。

基本介紹

  • 中文名:基於脈衝雷射沉積富硼B-C薄膜的關鍵技術研究
  • 作者:章嵩
  • 類別:礦山工程技術
  • 出版社:科學出版社
  • 出版時間:2017年11月
  • ISBN:9787030553331 
內容簡介,圖書目錄,

內容簡介

本書旨在利用脈衝雷射沉積技術,將其分別採用碳化硼陶瓷靶與硼碳拼合靶為靶材。通過對靶材成分、組成形式及沉積溫度等工藝參數的調整,得到表面平整、厚度均勻及成分可控的富硼B-C薄膜,建立靶材成分、組成形式和沉積溫度等工藝參數與薄膜組成、結構之間的關係,對該系列薄膜的生長機理進行分析研究。

圖書目錄

《博士後文庫》序言
前言
第1章導論
第2章富硼B-C陶瓷的製備、結構分析與成分控制
第3章採用B-C陶瓷靶的富硼B-C薄膜脈衝雷射沉積
第4章採用B-C拼合靶的富硼B-C薄膜脈衝雷射沉積
本書總結
參考文獻

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