《外場控制雷射沉積超導薄膜均勻性與膜面質量》是依託華中科技大學，由劉大明擔任項目負責人的青年科學基金項目。
基本介紹
- 中文名：外場控制雷射沉積超導薄膜均勻性與膜面質量
- 項目類別：青年科學基金項目
- 項目負責人：劉大明
- 依託單位：華中科技大學
- 批准號：59202016
- 申請代碼：E0206
- 負責人職稱：講師
- 研究期限：1993-01-01 至 1995-12-31
- 支持經費：5（萬元）
中文摘要
作為高曙超導最有希望實用化的材料，超導薄膜正受到學術界的極大重視。脈衝雷射剝離法以其沉積速率快、基片溫度低、保成份性好等優勢成為目前最佳的超導薄膜製備方法之一。但其存在膜均勻性和膜面質量不佳兩個影響實用的關鍵難點。本項目擬用外場控制靶面電漿狀態的方法予以解決，對策得優質超導薄膜和發展雷射制膜技術均具有重要意義。
