《積體電路製造技術/前沿電子信息專業教材系列》是上海交通大學出版社出版的圖書，作者是張亞非，段力。本書主要講述積體電路與微納製造工藝技術，既有基本原理和工藝技術的闡述，也有國內外發展狀況的介紹。
基本介紹
- 中文名：《積體電路製造技術/前沿電子信息專業教材系列》
- 作者：張亞非，段力
- 出版社：上海交通大學出版社
- ISBN：9787313186515
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
《積體電路製造技術/前沿電子信息專業教材系列》主要講述積體電路與微納製造工藝技術，既有基本原理和工藝技術的闡述，也有國內外近期發展狀況的介紹。《積體電路製造技術/前沿電子信息專業教材系列》把積體電路的工藝技術分類為圖形化（光刻）、加法（薄膜的技術）、減法（刻蝕技術）、乘除法（離子注入、silicide）及其積體電路工程學（良率、可靠性）和積體電路後勤工作（超淨問、IC衍生產業鏈）幾大類，便於學生掌握、記憶和類推。
《積體電路製造技術/前沿電子信息專業教材系列》可作為高等院校微電子學和半導體專業本科生的教材，也可供有關專業本科生、研究生及工程技術人員閱讀參考。
圖書目錄
第1篇 積體電路及其設計與製造
第1章 微電子改變了人們的生活
1．1 積體電路的簡要歷史
1．2 積體電路改變人們生活
1．3 積體電路對生活的改變——未來展望
第2章 積體電路近30年的發展
2．1 半導體與積體電路的產生及早期的發展
2．2 摩爾定律
2．3 積體電路發展史的幾個重要節點
2．4 積體電路產業，積體電路職場
第3章 積體電路的設計與製造技術及其基本原理
3．1 積體電路的設計與製造之間的關係及橋樑
3．2 積體電路的設計、仿真、檢驗
3．3 半導體器件基本原理
3．4 積體電路基本原理
第2篇 積體電路的基本工藝方法
第4章 圖形化：光刻工藝
4．1 光學系統
4．2 掩膜版技術
4．3 光刻膠
4．4 光刻技術
4．5 光刻缺陷
4．6 深紫外光刻工藝技術
第5章 積體電路工藝的“加法”：薄膜生長與澱積
5．1 薄膜生長技術
5．2 薄膜澱積技術
5．3 薄膜的表征
5．4 積體電路常用薄膜
第6章 積體電路工藝的“減法”：薄膜的刻蝕
6．1 薄膜刻蝕概述
6．2 濕法刻蝕
6．3 乾法刻蝕
6．4 剝離技術（Lift-off）
6．5 CMP技術
第7章 改性與摻雜工藝
7．1 擴散工藝技術
7．2 離子注入技術
7．3 退火與熱處理工藝
第3篇 積體電路工程學及其後勤工程
第8章 積體電路工程學
8．1 積體電路質量控制的工程學方法：6笤恚珻pk，統計質量控制（SQC）
8．2 實驗設計方法（DOE）
8．3 晶片的良率
8．4 可靠性
8．5 生產集成與自動化，計算機集成製造
8．6 設備通信及裝置自動化
8．7 半導體計算機集成公司（Fabless）與半導體製造廠商（Foundry）合作狀況，積體電路顧問公司（IC Consulting）的支援
第9章 積體電路的後勤工程
9．1 晶體、晶圓、SOI及異質襯底
9．2 積體電路製造中的材料及化學品
9．3 矽片清洗工藝，化學清洗與物理清洗、金屬的去除與有機污染
9．4 清洗技術
9．5 微分析技術，常用微分析儀器，故障分析FA
9．6 超淨間
9．7 積體電路供應鏈，積體電路產業鏈
