積體電路製造技術

積體電路製造技術

《積體電路製造技術》是2010年9月哈爾濱工業大學出版的圖書,作者是王蔚。

基本介紹

  • 書名:積體電路製造技術
  • 作者:王蔚
  • ISBN:9787121117510, 7121117517
  • 頁數:395
  • 定價:39.8元
  • 出版社:哈爾濱工業大學
  • 出版時間:2010年9月
  • 裝幀:平裝
  • 開本:16開
  • 正文語種:簡體中文
本書內容,讀者對象,本書特色,目錄,

本書內容

本書是哈爾濱工業大學“國家積體電路人才培養基地”教學建設成果,系統地介紹了矽積體電路製造當前普遍採用的工藝技術,全書分5個單元。第1單元介紹矽襯底,主要介紹矽單晶的結構特點,單晶矽錠的拉制及矽片(包含體矽片和外延矽片)的製造工藝及相關理論。第2~5單元介紹矽晶片製造基本單項工藝(氧化與摻雜、薄膜製備、光刻、工藝集成與封裝測試)的原理、方法、設備,以及所依託的技術基礎及發展趨勢。附錄A介紹以製作雙極型電晶體為例的微電子生產實習,雙極型電晶體的全部工藝步驟與檢測技術;附錄B介紹工藝模擬知識和SUPREM軟體。附錄部分可幫助學生從理論走向生產實踐,對微電子產品製造技術的原理與工藝全過程有更深入的了解。

讀者對象

本書可作為普通高校電子科學與技術、微電子學與固體電子學、微電子技術、積體電路設計及集成系統等專業的專業課教材,也可作為積體電路晶片製造企業工程技術人員的參考書。

本書特色

本書是哈爾濱工業大學“國家積體電路人才培養基地”教學建設成果。本類圖書(教材)市面上品種少,寫作門檻高。本書是作者基於十多年的講義改編。
本書知識體系完整,附錄部分附有積體電路工藝實習內容及相應軟體介紹,給出典型產品的工藝流程。
提供PPT、典型工藝的錄像和FLASH、積體電路工藝實驗講義、相關實驗技術資料等教輔支持。

目錄

第0章緒論
0.1何謂積體電路工藝
0.2積體電路製造技術發展歷程
0.3積體電路製造技術特點
0.4本書內容結構
第1單元矽襯底
第1章單晶矽特性
1.1矽晶體的結構特點
1.2矽晶體缺陷
1.3矽晶體中的雜質
本章小結
第2章矽片的製備
2.1多晶矽的製備
2.2單晶矽生長
2.3切制矽片
本章小結
第3章外延
3.1概述
3.2氣相外延
3.3分子束外延
3.4其他外延方法
3.5外延缺陷與外延層檢測
本章小結
單元習題
第2單元氧化與摻雜
第4章熱氧化
4.1二氧化矽薄膜概述
4.2矽的熱氧化
4.3初始氧化階段及薄氧化層製備
4.4熱氧化過程中雜質的再分布
4.5氧化層的質量及檢測
4.6其他氧化方法
本章小結
第5章擴散
5.1擴散機構
5.2晶體中擴散的基本特點與巨觀動力學方程
5.3雜質的擴散摻雜
5.4熱擴散工藝中影響雜質分布的其他因素
5.5擴散工藝條件與方法
5.6擴散工藝質量與檢測
5.7擴散工藝的發展
本章小結
第6章離子注入
6.1概述
6.2離子注入原理
6.3注入離子在靶中的分布
6.4注入損傷
6.5退火
6.6離子注入設備與工藝
6.7離子注入的其他套用
6.8離子注入與熱擴散比較及摻雜新技術
本章小結
單元習題
第3單元薄 膜 制 備
第7章化學氣相澱積
7.1CVD概述
7.2CVD工藝原理
7.3CVD工藝方法
7.4二氧化矽薄膜的澱積
7.5氮化矽薄膜澱積
7.6多晶矽薄膜的澱積
7.7CVD金屬及金屬化合物薄膜
本章小結
第8章物理氣相澱積
8.1PVD概述
8.2真空系統及真空的獲得
8.3真空蒸鍍
8.4濺射
8.5PVD金屬及化合物薄膜
本章小結
單元習題
第4單元光刻
第9章光刻工藝
9.1概述
9.2基本光刻工藝流程
9.3光刻技術中的常見問題
本章小結
第10章光刻技術
10.1光刻掩膜版的製造
10.2光刻膠
10.3光學解析度增強技術
10.4紫外光曝光技術
10.5其他曝光技術
10.6光刻設備
本章小結
第11章刻蝕技術
11.1概述
11.2濕法刻蝕
11.3乾法刻蝕
11.4刻蝕技術新進展
本章小結
單元習題
第5單元工藝集成與封裝測試
第12章工藝集成
12.1金屬化與多層互連
12.2CMOS積體電路工藝
12.3雙極型積體電路工藝
本章小結
第13章工藝監控
13.1概述
13.2實時監控
13.3工藝檢測片
13.4集成結構測試圖形
本章小結
第14章封裝與測試
14.1晶片封裝技術
14.2積體電路測試技術
本章小結
單元習題
附錄A微電子器件製造生產實習
A .1矽片電阻率測量
A .2矽片清洗
A .3一次氧化
A .4氧化層厚度測量
A .5光刻腐蝕基區
A .6硼擴散
A .7pn結結深測量
A .8光刻腐蝕發射區
A .9磷擴散
A .10光刻引線孔
A .11真空鍍鋁
A .12反刻鋁
A .13合金化
A .14中測
A .15劃片
A .16上架燒結
A .17壓焊
A .18封帽
A .19電晶體電學特性測量
附錄B SUPREM 模擬
B .1SUPREM軟體簡介
B .2氧化工藝
B .3擴散工藝
B .4離子注入
參考文獻()

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