真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
基本介紹
- 中文名:真空電鍍
- 外文名:vacuum plating
- 類別:電鍍
- 特點:真空
真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
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真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是採用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,...
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