光刻膠溶劑

光刻膠溶劑是指積體電路製造光刻工藝光刻膠配方中所使用的溶劑。

基本介紹

• 中文名：光刻膠溶劑
• 外文名：Photo resist solvent

光刻膠溶劑選取的基本原則是聚合物在其中的溶解度，描述聚合物在有機溶劑里的溶解度由Charles Hansen提出，也被稱為Hansen方法。這種方法用四個物理量來判斷聚合物在某個有機溶劑中的溶解度，分別為色散（D）、極性（P）、氫鍵（H）和相互作用的半徑（R）。這四個參數的獲取需要根據大量的實驗數據推算求得。把聚合物及其溶劑放置在以D、P、H為三維坐標的空間中，以聚合物為中心、以該聚合物的相互作用半徑畫球，如果溶劑位於球內，那么該光刻膠可以溶解於此溶劑。光刻膠的性能與光刻膠溶劑息息相關。