光刻材料

光刻材料是指光刻工藝中用到的增粘材料、抗反射塗層光刻膠、化學溶劑和顯影液,還包括193nm浸沒式光刻中用到的抗水塗層。

基本介紹

  • 中文名:光刻材料
  • 外文名:materials of lithography
光刻材料都被安裝在勻膠顯影機上,根據工藝流程的安排,旋塗或噴淋在晶圓上。光刻材料中,最主要的是光刻膠,它是一種光敏感的聚合物。在一定波長的光照下,光子激發材料中的光化學反應,改變其在顯影液中的溶解度。抗反射塗層被塗覆在光刻膠底部或頂部,吸收或抵消來自晶圓襯底的反射光,消除駐波效應。化學溶劑可以用於清洗晶圓邊緣和背面,使之潔淨,不污染機台。
在193nm浸沒式光刻中,塗覆在光刻膠上的抗水塗層可以隔絕水和光刻膠的直接接觸,既避免水對光刻膠性能的破壞,也避免光刻膠中的成分析出污染光刻機的鏡頭。

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