經顯影后,在光致抗蝕劑層上獲得與掩模圖形相同的及微細的幾何圖形,在利用刻蝕等方法,在工件材料上製造出微型結構。圖集 光刻加工圖冊 V百科往期回顧 詞條...
光刻加工技術是利用照相複製與化學腐蝕相結合的技術﹐在工件表面製取精密﹑微細和複雜薄層圖形的化學加工方法。...
光刻是平面型電晶體和積體電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化矽)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。...
積體電路製造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上,形成有效圖形視窗或功能圖形的工藝技術。隨著半導體技術的發展,光刻...
光刻加工技術是指加工製作半導體結構及積體電路微圖形結構的關鍵工藝技術,是微細製造領域套用較早並仍被廣泛採用的一類微製造技術。光刻加工原理與印刷技術中的照相...
雷射光刻是利用光學-化學反應原理等方法,將電路圖形刻印在介質表面,達到想要的圖形刻意功能的新型微細加工技術。...
雷射雕刻加工是雷射系統最常用的套用。根據雷射束與材料相互作用的機理,大體可將雷射加工分為雷射熱加工和光化學反應加工兩類。雷射熱加工是指利用雷射束投射到材料...
光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經歷矽片表面...
半導體光刻技術,是一種關鍵的半導體設備。...... 半導體光刻技術,是一種關鍵的半導體設備。中文名 半導體...電子束的產生採用微細加工方法製造的場致發射冷陰極,每...
3、化學加工:蝕刻、化學研磨、化學拋光;4、電加工:電火花加工、電子束加工、離子束加工、電漿加工;5、複合加工:光刻加工、ELID磨削、超音波磨削、超音波研磨...
定向自組裝光刻(Directed Self-Assembly ,DSA)是誘導光刻材料在矽片上自發形成有序結構的一種技術。...
光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,特別是近年來大規模和超大規模積體電路的發展,更是大大促進了光刻膠的研究開發和套用。印刷工業是光刻膠套用的...
例如超大規模積體電路的製版就是採用電子束對掩膜上的光致抗蝕劑(見光刻)進行...高精度與高效率精密加工和超精密加工雖能獲得極高的表面質量和表面完整性,但以...
正性光刻膠,樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的黏附性、化學抗蝕性,當沒有溶解抑制劑存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中;感光劑是光敏化合物...
光刻負膠,樹脂是聚異戊二烯,一種天然的橡膠;溶劑是二甲苯;感光劑是種經過曝光後釋放出氮氣的光敏劑,產生的自由基在橡膠分子間形成交聯。從而變得不溶於顯影液。...
國家重大科研裝備研製項目“超分辨光刻裝備研製”2018年11月29日通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製,光刻分辨力達到22納米,結合雙重曝光技術後,未來...
投影式光刻機一般採用步進-掃描式曝光方法。光源並不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上,曝光系統通過一個狹縫式曝光帶(slit)照射在掩模上,如圖1(a)所示。...