底層材料

為了降低表面效應和二次電子對光刻膠性能的影響，一般在矽襯底表面先塗一層非光敏感的材料，稱為底層材料。

極紫外光刻膠旋塗在底層材料上，底層材料不是光敏感的，類似於248nm和193nm光刻中的抗反射塗層。底層材料的設計思路是：選用刻蝕速率較高（即容易刻蝕）的聚合物作為基本材料，懸掛上對極紫外(EUV)光子吸收較強的基團和發色基團，發色基團控制反射光。