聚乙烯醇肉桂酸酯負性光刻膠

聚乙烯醇肉桂酸酯負性光刻膠

聚乙烯醇肉桂酸酯負性光刻膠(polyvinyl cinnamate photoersist )也稱聚肉桂酸酯負性光致抗蝕劑。其配膠組成如下。高聚物: 聚乙烯醇肉桂酸酯; 增感劑: 5-硝基苊; 溶劑: 環己酮; 添加劑: 根據需要。

基本介紹

  • 中文名:聚乙烯醇肉桂酸酯負性光刻膠
(1) 產品性能
淡黃色液體。在紫外光照射下發生聚合反應,不見光的部分不聚合。曝光顯影后圖形清晰、質量穩定。對二氧化矽、鋁氧化鉻等材料都有良好的附著力。耐氫氟酸、磷酸腐蝕。為負性光刻膠(即曝光後發生聚合或交聯反應,生成不可溶物質)。
(2)產品標準
外觀 淡黃色液體 針孔密度
固體含量 9%~10% (膜厚0.4~0.6μm)
水分 <=0.15% (膜厚16μm)
金屬雜質 <=1X10-6 解析度
黏度(30℃)
(3)產品用途
主要用於中、小規模積體電路和分立器件細微加工等。

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