噴嘴(光刻中用於光刻膠和各種有機溶劑的噴嘴)

噴嘴(光刻中用於光刻膠和各種有機溶劑的噴嘴)

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噴嘴用來供應光刻膠和各種有機溶劑,每一個噴嘴對應一種材料,如圖1所示。在整個光刻工藝中,除了曝光,其餘所有的步驟都是在勻膠顯影機中完成的。勻膠顯影機的主要工藝單元分別有晶圓表面增粘處理,光刻膠旋塗單元,邊緣曝光,顯影單元等,這些單元的裝置都離不開噴嘴。

基本介紹

  • 中文名:噴嘴
分類:
晶圓表面增粘處理:
有些晶圓表面是親水的,這不利於光刻膠的塗覆。在這種情況下,通常首先對晶圓表面做增粘處理,這是在勻膠顯影機的增粘單元中進行的。在真空腔中裝入晶圓後封閉腔體。晶圓在腔體中加熱到一定的溫度,同時通過噴嘴將六甲基二矽胺(HMDS)氣相引入或直接噴淋在晶圓表面,使其直接由親水性變成疏水性
1. 光刻膠旋塗單元:
(1)EBR(edge bead remove)噴嘴是指去邊溶劑噴嘴。有機溶劑從去邊噴嘴中傾斜向外噴在晶圓的邊 緣,同時晶圓以一定的速度旋轉,清洗晶圓的邊緣。
(2)膠噴嘴:如圖2所示,不僅僅局限於光刻膠,也可以用於旋塗抗反射塗層和防水頂蓋圖層。
圖2 膠噴嘴和背沖洗噴嘴示意圖圖2 膠噴嘴和背沖洗噴嘴示意圖
(3)背沖洗噴嘴:如圖2所示,也用來噴淋溶劑,在離心力的作用下,噴淋的溶劑清洗晶圓背面的邊緣區域。
2. 顯影單元:顯影單元包含一個轉台和幾個噴嘴,幾個噴嘴分別用於噴灑顯影液,去離子水以及表面活化劑。顯影液的噴淋分為兩種方式:靜態噴淋盒動態噴淋,顯影液噴嘴可以分三類,如圖3所示:
(1)掃描式細長噴口
(2)多個噴嘴動態噴淋
(3)單個噴嘴動態噴淋
圖3 三種典型的顯影液噴淋方法圖3 三種典型的顯影液噴淋方法
目前最新的的顯影噴嘴設計,一般是把幾個不同的噴嘴集成在一個機械臂上。

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