對羥基苯乙烯是一種重要的化工及醫藥中間體,在各類高分子材料及醫藥合成過程中有著較為廣泛的套用,如新興的光刻膠技術,正型化學增幅抗蝕劑一般採用聚對羥基苯乙烯的衍生物作為酸敏樹脂,含對羥基苯乙烯基高分子光阻劑已成為光刻蝕0.11μm線寬晶片的關鍵技術。
基本介紹
- 中文名:對羥基苯乙烯
- 外文名:4-hydrostyrene
- 拼音:duì qiǎng jī běn yǐ xī
- 套用:高分子材料及醫藥合成
- 領域:化工及醫藥
- 分子式:C8H8O
對羥基苯乙烯是一種重要的化工及醫藥中間體,在各類高分子材料及醫藥合成過程中有著較為廣泛的套用,如新興的光刻膠技術,正型化學增幅抗蝕劑一般採用聚對羥基苯乙烯的衍生物作為酸敏樹脂,含對羥基苯乙烯基高分子光阻劑已成為光刻蝕0.11μm線寬晶片的關鍵技術。
對羥基苯乙烯是一種重要的化工及醫藥中間體,在各類高分子材料及醫藥合成過程中有著較為廣泛的套用,如新興的光刻膠技術,正型化學增幅抗蝕劑一般採用聚對羥基苯乙烯的衍生物作為酸敏樹脂,含對羥基苯乙烯基高分子光阻劑已成為光刻蝕0....
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