光刻蝕phaloetching用照相製版的方法,將光敏高分子製成一定圖形的杭蝕性膜,再用化學或電化學方法進行腐蝕或電鍍的過程。如印刷線路銅版的製作。 ...
中文名稱 雷射刻蝕 英文名稱 laser corrosion 定義 採用高能脈衝雷射束在零件表面刻蝕出寬度為10~505m、深度為5~1001m的微細小槽,以改善材料表面潤滑特性的技術...
英文:interference lithography(IL)定義:干涉光刻技術是一個無需用到複雜的光學系統或光掩膜而製備精細結構的技術手段。...
電子抗蝕劑(Electron resist)是用於電子束曝光的一種抗蝕劑,屬於高分子聚合物,其性能類似於光學曝光中的光致抗蝕劑,即輻照可使其產生化學或物理變化而形成圖形。...
刻蝕,英文為Etch,它是半導體製造工藝,微電子IC製造工藝以及微納製造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻相聯繫的圖形化(pattern)處理的一種主要工藝。所謂刻蝕,...
刻蝕技術(etching technique),是在半導體工藝,按照掩模圖形或設計要求對半導體襯底表面或表面覆蓋薄膜進行選擇性腐蝕或剝離的技術。刻蝕技術不僅是半導體器件和積體電路...
這一層物質用於同一層中的其它控制套用。這層物質在乾燥時具有很好的感光效果,而且在光刻蝕過程結束之後,能夠通過化學方法將其溶解並除去。...
8.2 光刻蝕工藝概述8.3 光刻10步法8.4 基本的光刻膠化學8.5 光刻膠性能的要素8.6 正膠和負膠的比較8.7 光刻膠的物理屬性8.8 光刻工藝8.9 表面準備...
但隨著光吸收性能要求的提高,TCO玻璃必須具備提高光散射的能力,而ITO鍍膜很難做到這一點,並且雷射刻蝕性能也較差。銦為稀有元素,在自然界中貯存量少,價格較高。...
表面電漿光子晶片、耦合器、調製器和開關,套用於亞波長光學數據存儲、新型光源、突破衍射極限的超分辨成像、SPPs納米光刻蝕術、以及生物光學(作為感測器和探測器)...
由於普通光刻技術加工解析度受到經典光學衍射極限的限制, 為了得到更高的解析度, 光刻技術使用的光源波長從紅外發展到深紫外, 加工方法從普通的雷射刻蝕, 發展到 X...
一般情況下,普通鍍膜玻璃要求膜層表面越光滑越好,霧度越小越好,但光伏用TCO玻璃則要求有一定的光散射能力。雷射刻蝕性能:薄膜電池在製作過程中,需要將表面劃分成多...
改變行業面貌:公司研發、生產的LED晶片切割設備、ITO薄膜雷射刻蝕設備和薄膜太陽能電池雷射刻蝕設備技術優勢明顯,改變了國內進口設備長期被國外公司壟斷的局面,大大降低...
4.雷射刻蝕性能 薄膜電池在製作過程中,需要將表面劃分成多個長條狀的電池組,這些電池組被串聯起來用以提高輸出能效。因此,TCO玻璃在鍍半導體膜之前,必須要對表面的...
柵極也是在不妨礙顯示的原則下,將不鏽鋼等的薄板予以光刻蝕(PHOTO-ETHING)後成型的金屬格線(MESH),在其上加上正電壓,可加速並擴散自燈絲所放射出來的電子,將之...
當光柵占空比、光柵厚度在較大範圍內有偏差時,對濾光片的光譜特性影響相對比較小,這樣在刻蝕光柵過程中,濾光片對光柵刻蝕的容許誤差有很大提高,有利於光柵濾光片...
即在同片已做好的P-N結片子上,採用光刻蝕的方法分成許多單個器件,或把單個二級管管芯在同一基片上排列成一定形狀,然後把它們並聯或串聯起來,封裝後即成為陣列...
帶通濾光片、截止濾光片、帶阻濾光片和分光鏡的膜系構成、特性描述及其套用;...11.5 光刻蝕 31611.5.1 光刻工藝 31611.5.2 光刻膠 317...
如用雷射刻蝕加工半導體晶片和二維光柵。利用雷射的高密度能量,可以對硬脆性難加工材料進行雷射銑削加工為利用脈衝雷射分別銑削加工的硬質合金和氧化鋁陶瓷。利用二氧化碳...
3.6.3 雷射刻蝕 3.7 LIGA技術 3.8 微細立體光刻技術 3.9 精密放電加工技術與超精密機械加工技術 3.10 微機械裝配與集成 3.10.1 堆裝技術 3.10...
11.5光刻蝕 11.5.1光刻工藝 11.5.2光刻膠 11.5.3掩模 11.5....橢圓偏振法以測量光的偏振態為基礎,通過測量P波偏振光和S波偏振光在薄膜表面反時...