三維電子封裝的矽通孔技術

《三維電子封裝的矽通孔技術》是2014年7月化學工業出版社出版的圖書，作者是【美】John HLau(劉漢誠)，譯者是秦飛、曹立強。

基本介紹

• 中文名：三維電子封裝的矽通孔技術
• 作者：【美】John HLau(劉漢誠)
• 譯者：秦飛、曹立強
• 出版時間：2014年7月
• 出版社：化學工業出版社
• 頁數：390 頁
• ISBN：9787122198976
• 開本：16 開
• 裝幀：平裝

內容簡介

本書系統討論了用於電子、光電子和微機電系統（MEMS）器件的三維集成矽通孔（TSV）技術的最新進展和可能的演變趨勢，詳盡討論了三維集成關鍵技術中存在的主要工藝問題和潛在解決方案。首先介紹了半導體工業中的納米技術和三維集成技術的起源和演變歷史，然後重點討論TSV製程技術、晶圓減薄與薄晶圓在封裝組裝過程中的拿持技術、三維堆疊的微凸點製作與組裝技術、晶片與晶片鍵合技術、晶片與晶圓鍵合技術、晶圓與晶圓鍵合技術、三維器件集成的熱管理技術以及三維集成中的可靠性問題等，最後討論了具備量產潛力的三維封裝技術以及TSV技術的未來發展趨勢。

本書適合從事電子、光電子、MEMS等器件三維集成的工程師、科研人員和技術管理人員閱讀，也可以作為相關專業大學高年級本科生和研究生教材和參考書。

圖書目錄

第1章半導體工業中的納米技術和3D集成技術1

1.1引言1

1.2納米技術1

1.2.1納米技術的起源1

1.2.2納米技術的重要里程碑1

1.2.3石墨烯與電子工業3

1.2.4納米技術展望3

1.2.5摩爾定律：電子工業中的納米技術4

1.33D集成技術5

1.3.1TSV技術5

1.3.23D集成技術的起源7

1.43D Si集成技術展望與挑戰8

1.4.13D Si集成技術8

1.4.23D Si集成鍵合組裝技術9

1.4.33D Si集成技術面臨的挑戰9

1.4.43D Si集成技術展望9

1.53D IC集成技術的潛在套用與挑戰10

1.5.13D IC集成技術的定義10

1.5.2移動電子產品的未來需求10

1.5.3頻寬和寬I/O的定義11

1.5.4存儲頻寬11

1.5.5存儲晶片堆疊12

1.5.6寬I/O存儲器13

1.5.7寬I/O動態隨機存儲器（DRAM）13

1.5.8寬I/O接口17

1.5.92.5D與3D IC集成（無源與有源轉接板）技術17

1.62.5D IC集成（轉接板）技術的最新進展18

1.6.1用作中間基板的轉接板18

1.6.2用於釋放應力的轉接板20

1.6.3用作載板的轉接板22

1.6.4用於熱管理的轉接板23

1.73D IC集成無源TSV轉接板技術的新趨勢23

1.7.1雙面貼裝空腔式轉接板技術24

1.7.2有機基板開孔式轉接板技術25

1.7.3設計舉例25

1.7.4帶散熱塊的有機基板開孔式轉接板技術27

1.7.5超低成本轉接板27

1.7.6用於熱管理的轉接板技術28

1.7.7用於LED和SiP封裝的帶埋入式微流體通道的轉接板技術29

1.8埋入式3D IC集成技術32

1.8.1帶應力釋放間隙的半埋入式轉接板33

1.8.2用於光電子互連的埋入式3D 混合IC集成技術33

1.9總結與建議34

1.10參考文獻35

第2章TSV技術39

2.1引言39

2.2TSV的發明39

2.3採用TSV技術的量產產品40

2.4TSV孔的製作41

2.4.1DRIE與雷射打孔41

2.4.2製作錐形孔的DRIE工藝44

2.4.3製作直孔的DRIE工藝46

2.5絕緣層製作56

2.5.1熱氧化法製作錐形孔絕緣層56

2.5.2PECVD法製作錐形孔絕緣層58

2.5.3PECVD法製作直孔絕緣層的實驗設計58

2.5.4實驗設計結果60

2.5.5總結與建議61

2.6阻擋層與種子層製作62

2.6.1錐形TSV孔的Ti阻擋層與Cu種子層63

2.6.2直TSV孔的Ta阻擋層與Cu種子層64

2.6.3直TSV孔的Ta阻擋層沉積實驗與結果65

2.6.4直TSV孔的Cu種子層沉積實驗與結果67

2.6.5總結與建議67

2.7TSV電鍍Cu填充69

2.7.1電鍍Cu填充錐形TSV孔69

2.7.2電鍍Cu填充直TSV孔70

2.7.3直TSV盲孔的漏電測試72

2.7.4總結與建議73

2.8殘留電鍍Cu的化學機械拋光（CMP）73

2.8.1錐形TSV的化學機械拋光73

2.8.2直TSV的化學機械拋光74

2.8.3總結與建議82

2.9TSV Cu外露83

2.9.1CMP濕法工藝83

2.9.2乾法刻蝕工藝86

2.9.3總結與建議89

2.10FEOL與BEOL90

2.11TSV工藝90

2.11.1鍵合前制孔工藝91

2.11.2鍵合後制孔工藝91

2.11.3先孔工藝91

2.11.4中孔工藝91

2.11.5正面後孔工藝91

2.11.6背面後孔工藝92

2.11.7無源轉接板93

2.11.8總結與建議93

2.12參考文獻94

第3章TSV的力學、熱學與電學行為97

3.1引言97

3.2SiP封裝中TSV的力學行為97

3.2.1有源/無源轉接板中TSV的力學行為97

3.2.2可靠性設計（DFR）結果100

3.2.3含RDL層的TSV102

3.2.4總結與建議105

3.3存儲晶片堆疊中TSV的力學行為105

3.3.1模型與方法105

3.3.2TSV的非線性熱應力分析106

3.3.3修正的虛擬裂紋閉合技術108

3.3.4TSV界面裂紋的能量釋放率110

3.3.5TSV界面裂紋能量釋放率的參數研究110

3.3.6總結與建議115

3.4TSV的熱學行為116

3.4.1TSV晶片/轉接板的等效熱導率116

3.4.2TSV節距對TSV晶片/轉接板等效熱導率的影響119

3.4.3TSV填充材料對TSV晶片/轉接板等效熱導率的影響120

3.4.4TSV Cu填充率對TSV晶片/轉接板等效熱導率的影響120

3.4.5更精確的計算模型123

3.4.6總結與建議125

3.5TSV的電學性能125

3.5.1電學結構125

3.5.2模型與方程126

3.5.3總結與建議127

3.6盲孔TSV的電測試128

3.6.1測試目的128

3.6.2測試原理與儀器128

3.6.3測試方法與結果131

3.6.4盲孔TSV電測試指引133

3.6.5總結與建議136

3.7參考文獻136

第4章薄晶圓的強度測量140

4.1引言140

4.2用於薄晶圓強度測量的壓阻應力感測器140

4.2.1壓阻應力感測器及其套用140

4.2.2壓阻應力感測器的設計與製作140

4.2.3壓阻應力感測器的校準142

4.2.4背面磨削後晶圓的應力144

4.2.5切割膠帶上晶圓的應力149

4.2.6總結與建議150

4.3晶圓背面磨削對Culowk晶片力學行為的影響151

4.3.1實驗方法151

4.3.2實驗過程152

4.3.3結果與討論154

4.3.4總結與建議160

4.4參考文獻161

第5章薄晶圓拿持技術163

5.1引言163

5.2晶圓減薄與薄晶圓拿持163

5.3黏合是關鍵163

5.4薄晶圓拿持問題與可能的解決方案164

5.4.1200mm薄晶圓的拿持165

5.4.2300mm薄晶圓的拿持172

5.5切割膠帶對含Cu/Au焊盤薄晶圓拿持的影響176

5.6切割膠帶對含有CuNiAu凸點下金屬(UBM)薄晶圓拿持的影響177

5.7切割膠帶對含RDL和焊錫凸點TSV轉接板薄晶圓拿持的影響178

5.8薄晶圓拿持的材料與設備180

5.9薄晶圓拿持的黏合劑和工藝指引181

5.9.1黏合劑的選擇181

5.9.2薄晶圓拿持的工藝指引182

5.10總結與建議182

5.113M公司的晶圓支撐系統183

5.12EVG公司的臨時鍵合與解鍵合系統186

5.12.1臨時鍵合186

5.12.2解鍵合186

5.13無載體的薄晶圓拿持技術187

5.13.1基本思路187

5.13.2設計與工藝187

5.13.3總結與建議189

5.14參考文獻189

第6章微凸點製作、組裝與可靠性192

6.1引言192

A部分：晶圓微凸點製作工藝193

6.2內容概述193

6.3普通焊錫凸點製作的電鍍方法193

6.43D IC集成SiP的組裝工藝194

6.5晶圓微凸點製作的電鍍方法194

6.5.1測試模型194

6.5.2採用共形Cu電鍍和Sn電鍍製作晶圓微凸點195

6.5.3採用非共形Cu電鍍和Sn電鍍製作晶圓微凸點200

6.6製作晶圓微凸點的電鍍工藝參數202

6.7總結與建議203

B部分：超細節距晶圓微凸點的製作、組裝與可靠性評估203

6.8細節距無鉛焊錫微凸點204

6.8.1測試模型204

6.8.2微凸點製作204

6.8.3微凸點表征205

6.9C2C互連細節距無鉛焊錫微凸點的組裝210

6.9.1組裝方法、表征方法與可靠性評估方法210

6.9.2C2C自然回流焊組裝工藝211

6.9.3C2C自然回流焊組裝工藝效果的表征211

6.9.4C2C熱壓鍵合(TCB)組裝工藝212

6.9.5C2C熱壓鍵合(TCB)組裝工藝效果的表征214

6.9.6組裝可靠性評估214

6.10超細節距晶圓無鉛焊錫微凸點的製作219

6.10.1測試模型219

6.10.2微凸點製作219

6.10.3超細節距微凸點的表征219

6.11總結與建議221

6.12參考文獻221

第7章微凸點的電遷移224

7.1引言224

7.2大節距大體積微焊錫接點224

7.2.1測試模型與測試方法224

7.2.2測試步驟226

7.2.3測試前試樣的微結構226

7.2.4140℃、低電流密度條件下測試後的試樣227

7.2.5140℃、高電流密度條件下測試後的試樣229

7.2.6焊錫接點的失效機理231

7.2.7總結與建議232

7.3小節距小體積微焊錫接點233

7.3.1測試模型與方法233

7.3.2結果與討論235

7.3.3總結與建議241

7.4參考文獻241

第8章晶片到晶片、晶片到晶圓、晶圓到晶圓鍵合245

8.1引言245

8.2低溫焊料鍵合基本原理245

8.3低溫C2C鍵合(SiO2/Si3N4/Ti/Cu)到

(SiO2/Si3N4/Ti/Cu/In/Sn/Au)246

8.3.1測試模型246

8.3.2拉力測試結果248

8.3.3X射線衍射與透射電鏡觀察結果250

8.4低溫C2C鍵合(SiO2/Ti/Cu/Au/Sn/In/Sn/Au)到

(SiO2/Ti/Cu/Sn/In/Sn/Au)252

8.4.1測試模型252

8.4.2測試結果評估253

8.5低溫C2W鍵合[(SiO2/Ti/Au/Sn/In/Au)到(SiO2/Ti/Au)]254

8.5.1焊料設計255

8.5.2測試模型255

8.5.3用於3D IC晶片堆疊的InSnAu低溫鍵合257

8.5.4InSnAu IMC層的SEM、TEM、XDR、DSC分析258

8.5.5InSnAu IMC層的彈性模量和硬度259

8.5.6三次回流後的InSnAu IMC層259

8.5.7InSnAu IMC層的剪下強度260

8.5.8InSnAu IMC層的電阻262

8.5.9InSnAu IMC層的熱穩定性263

8.5.10總結與建議264

8.6低溫W2W鍵合[TiCuTiAu到TiCuTiAuSnInSnInAu]264

8.6.1測試模型265

8.6.2測試模型製作265

8.6.3低溫W2W鍵合265

8.6.4CSAM檢測267

8.6.5微結構的SEM/EDX/FIB/TEM分析268

8.6.6氦泄漏率測試與結果271

8.6.7可靠性測試與結果272

8.6.8總結與建議273

8.7參考文獻275

第9章3D IC集成的熱管理278

9.1引言278

9.2TSV轉接板對3D SiP封裝熱性能的影響279

9.2.1封裝的幾何參數與材料的熱性能參數279

9.2.2TSV轉接板對封裝熱阻的影響280

9.2.3晶片功率的影響280

9.2.4TSV轉接板尺寸的影響281

9.2.5TSV轉接板厚度的影響281

9.2.6晶片尺寸的影響282

9.33D存儲晶片堆疊封裝的熱性能282

9.3.1均勻熱源3D堆疊TSV晶片的熱性能282

9.3.2非均勻熱源3D堆疊TSV晶片的熱性能282

9.3.3各帶一個熱源的兩個TSV晶片283

9.3.4各帶兩個熱源的兩個TSV晶片284

9.3.5交錯熱源作用下的兩個TSV晶片285

9.4TSV晶片厚度對熱點溫度的影響287

9.5總結與建議287

9.63D SiP封裝的TSV和微通道熱管理系統288

9.6.1測試模型288

9.6.2測試模型製作289

9.6.3晶圓到晶圓鍵合291

9.6.4熱性能與電性能292

9.6.5品質與可靠性293

9.6.6總結與建議295

9.7參考文獻296

第10章3D IC封裝299

10.1引言299

10.2TSV技術與引線鍵合技術的成本比較300

10.3Culowk晶片堆疊的引線鍵合301

10.3.1測試模型301

10.3.2Culowk焊盤上的應力301

10.3.3組裝與工藝304

10.3.4總結與建議312

10.4晶片到晶片的面對面堆疊313

10.4.1用於3D IC封裝的AuSn互連313

10.4.2測試模型313

10.4.3C2W組裝316

10.4.4C2W實驗設計319

10.4.5可靠性測試與結果322

10.4.6用於3D IC封裝的SnAg互連323

10.4.7總結與建議325

10.5用於低成本、高性能與高密度SiP封裝的面對面互連326

10.5.1用於超細節距Culowk晶片的Cu柱互連技術326

10.5.2可靠性評估327

10.5.3一些新的設計328

10.6埋入式晶圓級封裝（eWLP）到晶片的互連328

10.6.12D eWLP與再布線晶片封裝（RCP）互連328

10.6.23D eWLP與再布線晶片封裝（RCP）互連329

10.6.3總結與建議329

10.7引線鍵合可靠性330

10.7.1常用晶片級互連技術330

10.7.2力學模型330

10.7.3數值結果332

10.7.4實驗結果333

10.7.5關於Cu引線的更多結果334

10.7.6關於Au引線的結果334

10.7.7Cu引線與Au引線的應力應變關係335

10.7.8總結與建議336

10.8參考文獻338

第11章3D 集成的發展趨勢344

11.1引言344

11.23D Si集成發展趨勢344

11.33D IC集成發展趨勢345

11.4參考文獻346

附錄A量度單位換算表347

附錄B縮略語表351

附錄CTSV專利355

附錄D推薦閱讀材料366

D.1TSV、3D集成與可靠性366

D.23D MEMS與IC集成380

D.3半導體IC封裝384