etching,英語單詞,主要用作名詞、動詞、形容詞,作名詞時譯為”蝕刻術;蝕刻版畫“,作動詞時譯為”蝕刻;刻畫(etch的ing形式)“,作形容詞時譯為”蝕刻的“。
基本介紹
- 外文名:etching
- 詞性:名詞、動詞、形容詞
- 英式發音:[ˈetʃɪŋ]
- 美式發音:[ˈetʃɪŋ]
etching,英語單詞,主要用作名詞、動詞、形容詞,作名詞時譯為”蝕刻術;蝕刻版畫“,作動詞時譯為”蝕刻;刻畫(etch的ing形式)“,作形容詞時譯為”蝕刻的“。
electroetching,英語單詞,主要用作為名詞,用作名詞譯為“電蝕刻”。英語釋義 Electroetching Electroetching is a metal etching process that involves the use of a solution of an electrolyte, an anode and a cathode. The metal...
蝕刻(etching)是使用化學反應或物理撞擊作用而移除部分材料的技術。蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wet etching)和乾蝕刻(dry etching)兩類。最早可用來製造銅版、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用於減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板,銘牌及...
蝕刻法(Etching),在硬面上通過用酸切割線條來製作設計或圖畫。簡介 從蝕刻的表面上印刷出來的設計或圖畫也可以稱為蝕刻版畫。這個名稱來源於荷蘭語蝕刻,“侵蝕”或“吃”。蝕刻與相似流程雕刻的區別在於雕刻的線條是用銳利的工具而不...
金屬蝕刻(etching)是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。金屬蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wet etching)和乾蝕刻(dry etching)兩類。金屬蝕刻是由一系列複雜的化學過程組成,不同的腐蝕劑對不同金屬材料具有不同的腐蝕性能和強度。
煙燻在蝕刻版(ETCHING)和刮刻版(DRYDOINT)中,將透明或半透明的蝕刻底子(ETCHING GROUND)燻黑。這是用刻針(NEEDLE)直接在銅版面上刻繪之前的最後準備工作。通常是用鉗子夾住銅板需作畫的面在一捆蠟燭的微火上熏,使蝕刻底板上...
刻蝕技術(etching technique),是在半導體工藝,按照掩模圖形或設計要求對半導體襯底表面或表面覆蓋薄膜進行選擇性腐蝕或剝離的技術。刻蝕技術不僅是半導體器件和積體電路的基本製造工藝,而且還套用於薄膜電路、印刷電路和其他微細圖形的加工。
刻針或尖筆 是指在蝕刻(ETCHING)和針刻法(DRYPOINT)中用來在金屬版上作畫的細尖刻具。在直接刻線法中,刻針直接在金屬版上刻畫,在蝕刻中,刻針只是畫蝕刻底子(ETCHING GROUND)。蝕刻針的形式有多種多樣也可以自制。傳統的...
腐蝕缺隙是指在進行蝕刻(ETCHING)時,由於印版的過度腐蝕而引起的一種缺陷(見BITING)。腐蝕缺隙可能是腐蝕過深的線條,或者是過度熔融而造成界限模糊的線條。這些缺陷只能於再次蝕刻之前通過重修印版表面有缺陷的部分來修復(也就是說...
軟底蝕刻法是指—種蝕刻(ETCHING)技法,印出的圖畫線條柔和,並且有彩鉛筆觸效果的顆粒狀或像石版和粉筆版畫效果的顆粒狀。蝕刻版上塗一層不同於普通蝕刻所用的蝕刻底子(ETCHING GROUND),它至少是一半動物脂,這樣塗層才是油膩光滑...
冰凍蝕刻(freeze-etching)技術是在冰凍斷裂技術的基礎上發展起來的更複雜的復型技術。如果將冰凍斷裂的樣品的溫度稍微升高,讓樣品中的冰在真空中升華,而在表面上浮雕出細胞膜的超微結構。當大量的冰升華之後,對浮雕表面進行鉑-碳復型...
離子束蝕刻 離子束蝕刻(ion beam etching)是2005年公布的航天科學技術名詞。公布時間 2005年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《航天科學技術名詞》第一版。
氬離子刻蝕 氬離子刻蝕(argon ion etching)是2019年公布的物理學名詞。公布時間 2019年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《物理學名詞》第三版。
蝕刻,通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻(photochemical etching),指通過曝光製版、顯影后,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。蝕刻加工,是利用這一原理,對金屬進行定製加工的一...
蝕刻(etching)是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wet etching)和乾蝕刻(dry etching)兩類。最早可用來製造銅版、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用於減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板,銘牌及...
凍蝕刻(Freezeetching)技術是從50年代開始發展起來的一種將斷裂和復型相結合的製備透射電鏡樣品技術,亦稱冷凍斷裂(Freezefracture)或冷凍復型(Freezereplica),用於細胞生物學等領域的顯微結構研究。內容簡介 冷凍蝕刻(Freezeetching)技術是從...
蝕刻速率 蝕刻速率(etching rate)是表征固體介質被化學試劑蝕刻快慢的物理量。與材料性質、人射帶電粒子性質、化學試劑性質以及溫度等參量有關。
冷藏蝕刻(freeze-etching)技術是在冷藏斷裂技術的基礎上發展起來的更複雜的復型技術。冷藏蝕刻技術發展 如果將冷藏斷裂的樣品的溫度稍微升高,讓樣品中的乾冰在真空中升華,而在表面上浮雕出細胞膜的超微結構。當大量的乾冰升華之後,對...
乾刻蝕 乾刻蝕(dry etching)是2019年公布的物理學名詞。公布時間 2019年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《物理學名詞》第三版。
Mura free.2. 曝光Exposure: Photospeed.3. Development: Thickness loss, taper and process window.4. Postbaking: Heat resistance and reflow.5. Etching: Etching resistance and adhesion.6. Stripping: Resist removability.
反應性離子刻蝕 (reaction ionetching;RIE)是製作半導體積體電路的蝕刻工藝之一。在除去不需要的積體電路板上的保護膜時,利用反應性氣體的離子束,切斷保護膜物質的化學鍵,使之產生低分子物質,揮發或游離出板面,這樣的方法稱為反應性...
銅版(copper etching)鋅版(zinc etching)無粉腐蝕法(powderless etching)線條腐蝕(line etching)網點腐蝕(halftone etching)塑膠版(plastic duplicate plate)感光性樹脂凸版( photopolymer relief plate)預塗感光凸版(presensitized relief ...
雷射刻蝕(laser etching),2021年公布的光學名詞,是一種將聚焦雷射照射到堅硬物體表面使其形成蝕痕的工藝。定義 將聚焦雷射照射到堅硬物體表面使其形成蝕痕的一種工藝。雷射刻蝕具有精細、對被刻物損傷小等優點。出處 《光學名詞》。