X射線光刻(X-ray lithography)是2005年公布的航天科學技術名詞。
基本介紹
- 中文名:X射線光刻
- 外文名:X-ray lithography
- 所屬學科:航天科學技術
- 公布時間:2005年
X射線光刻(X-ray lithography)是2005年公布的航天科學技術名詞。
X射線光刻 X射線光刻(X-ray lithography)是2005年公布的航天科學技術名詞。公布時間 2005年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《航天科學技術名詞》第一版。
X射線干涉光刻線站是一種用於物理學、化學、材料科學、能源科學技術領域的分析儀器,於2010年1月10日啟用。技術指標 能量範圍 192 - 2182 eV 250-2000eV(常用最佳化範圍) 能量分辨 17900@244eV 2460@1840eV 樣品處光通量 2.2x108phs...
光刻是平面型電晶體和積體電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化矽)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。準分子光刻技術 準分子光刻技術作為當前主流的光刻技術,主要包括:特徵尺寸為0.1μm的...
軟X射線投影光刻系統 由圖所示,未來軟X射線投影光刻設備由雷射電漿光源、照明光學系統、微縮投影光學系統、掩模及矽片精密工作檯、減震系統及相應的真空室組成。微縮投影光學系統是由二塊或三塊非球面鏡組成的反射式光學系統。此時,像...
《金剛石膜同步輻射X射線掩模及光刻的基礎研究》是依託四川大學,由苟立擔任項目負責人的面上項目。 項目摘要 同步輻射X射線暴光是最有前途的一種亞微米光刻技術,利用金剛石薄膜優異的光學,力學性能製作光刻掩模,研究金剛石膜的工藝...
《全息-濕法刻蝕200nm周期X射線矽透射光柵》是依託中國科學技術大學,由邱克強擔任項目負責人的面上項目。中文摘要 慣性約束聚變電漿診斷與天文物理等領域需要高線密度,高高寬比透射光柵實現高能X射線光譜測量。先光刻產生光刻膠掩模...
光刻的精度很高﹐可達微米數量級﹐為使蝕刻線條清晰﹑邊緣陡直﹑解析度小於1微米的超微細圖形﹐可採用遠紫外曝光﹑X射線曝光﹑電子束掃描曝光﹐以及電漿乾法蝕刻等新技術。參考書目 李家植編﹕《半導體化學原理》﹐科學出版社﹐北京﹐...
X 射線螢光光譜分析不僅成為對其物質的化學元素、物相、化學立體結構、物證材料進行試測,對產品和材料質量進行無損檢測,對人體進行醫檢和微電路的光刻檢驗等的重要分析手段,也是材料科學、生命科學、環境科學等普遍採用的一種快速、準確...
極紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常稱作EUV光刻,它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術。具體為採用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發紫外線管的K極然後放射出紫外線。簡介 極紫外光刻(英語:...
《X射線光學在固體領域中的套用》是1985年科學出版社出版的圖書,作者是奎瑟。內容簡介 該書重點介紹與固體材料微觀結構研究及固體器件製作密切相關的幾種新型X射線光學技術,詳細闡述對半導體器件和其他高集成度固體器件進一步微型化具有十分...
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕塗層材...
在介紹同步輻射光源的概述(第1章)之後,按同步輻射中的衍射、散射、光譜、成像和同步輻射X射線光刻、微細加工等五大類實驗技術,分章(第2-6章)介紹各自的原理、實驗設備、數據收集、數據分析及套用概要。重點是介紹套用技術基礎,不過...
熱X射線 熱X射線(thermal X-ray)是2005年公布的航天科學技術名詞。公布時間 2005年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《航天科學技術名詞》第一版。
X射線感光樹脂指對X射線 敏感的感光樹脂,由於X射線的能量比紫外和可見光高許 多,往往不需要光敏化劑,可以直接使聚合物鏈發生斷裂,引 起聚合物的交聯或降解,但是X射線光刻工藝對設備要求 高,結構複雜而昂貴,因此只在特殊場合下...
在介紹同步輻射光源的概述(第1章)之後,按同步輻射中的衍射、散射、光譜、成像和同步輻射X射線光刻、微細加工等五大類實驗技術,分章(第2-6章)介紹各自的原理、實驗設備、數據收集、數據分析及套用概要。重點是介紹套用技術基礎,不...
LIGA工藝是一種基於X射線光刻技術的MEMS加工技術,主要包括X光深度同步輻射光刻,電鑄制模和注模複製三個工藝步驟。定義 LIGA是德文Lithographie,Galvanoformung和Abformung三個詞,即光刻、電鑄和注塑的縮寫。由於X射線有非常高的平行度、...
(Lithograthie Galvanoformung Abformung)技術是X射線深層光刻、微電鑄和微塑鑄三個工藝的組合。該技術的優點是能夠製造出複雜的三維微型零件,成形的零件有較大的深寬比,最大可達100以上,厚度為幾百到上千微米,並且沿深度方向的...
國家同步輻射實驗室現建有X射線光刻、紅外與遠紅外、高空間分辨X射線成像、X射線衍射與散射、擴展X光吸收精細結構、燃燒、X射線顯微術、原子與分子物理、真空紫外分析、表面物理、軟X射線磁性圓二色、光電子能譜、真空紫外光譜、光聲與...
切割道上光刻對準標記圖形 光刻對準標記是置於光罩和圓片上用來確定它們的位置和方向的可見圖形。標記也被稱做指示或基準標記,可能是光罩上的一根或多根線標記在光刻到矽片上後就形成溝槽。如果對準標記的寬度過寬,化學機械研磨的碟形效應...
此裝置不能產生硬X射線,是一個VUV環。該裝置於20世紀90年代初建成,稱為國家同步輻射實驗室(NSRL)。1992年開始為用戶服務,有光電子能譜,光化學,光刻,軟X射線譜及時間分辨五個實驗站。1999年成功安裝運轉了一台6T的扭擺器,...
2.5 軟X射線全息顯微成像技術簡介 2.5.1 全息術基本概念 2.5.2 軟X射線全息顯微成像技術 2.5.3 軟X射線全息顯微成像技術的套用 2.6 同步輻射X射線光刻技術 2.6.1 光刻技術簡介 2.6.2 X射線光刻的基本原理 2...
建立了比較成熟的深度光刻工藝,研製出多種光刻膠圖形。建立了一套微電鑄體系,探索了微電鑄的條件,研製出了幾種金屬圖形,進行了高靈敏度X射線光刻膠的襯研究工作。研製出了α粒子偏碼成像波帶片、X射線斷透射光柵等實用的微光學元件...
LPP(laser-produced plasma)光源,全稱為雷射電漿光源,一般特指液體微滴噴射靶雷射電漿光源,是一種具有較高的軟X射線轉換效率且能夠長期連續運行的低碎屑光源。在極紫外光刻及輻射計量等領域有著重要套用價值和廣闊的發展前景。
4.4 X射線光刻技術 (246)4.4.1 概述 (246)4.4.2 接近式X射線光刻系統及X射線光刻掩模板 (247)4.4.3 投射式X射線光刻 (250)4.5 極紫外線光刻 (252)4.6 電子束光刻系統 (254)4.6.1 概述 (254)4.6.2...