《金剛石膜同步輻射X射線掩模及光刻的基礎研究》是依託四川大學,由苟立擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名:金剛石膜同步輻射X射線掩模及光刻的基礎研究
- 項目類別:面上項目
- 項目負責人:苟立
- 依託單位:四川大學
- 批准號:69876026
- 申請代碼:F0406
- 負責人職稱:教授
- 研究期限:1999-01-01 至 2001-12-31
- 支持經費:15.5(萬元)
項目摘要
同步輻射X射線暴光是最有前途的一種亞微米光刻技術,利用金剛石薄膜優異的光學,力學性能製作光刻掩模,研究金剛石膜的工藝,結構與X射線透過率的關係;金剛石掩模板的設計,製備技術;同步輻射X射線光刻套用的基礎理論。對促進同步輻射X射線光刻套用和加速我國微電子工業的發展有重大意義。