《金剛石膜同步輻射X射線掩模及光刻的基礎研究》是依託四川大學，由苟立擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：金剛石膜同步輻射X射線掩模及光刻的基礎研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：苟立
- 依託單位：四川大學
- 批准號：69876026
- 申請代碼：F0406
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：1999-01-01 至 2001-12-31
- 支持經費：15.5（萬元）
項目摘要
同步輻射Ｘ射線暴光是最有前途的一種亞微米光刻技術，利用金剛石薄膜優異的光學，力學性能製作光刻掩模，研究金剛石膜的工藝，結構與Ｘ射線透過率的關係；金剛石掩模板的設計，製備技術；同步輻射Ｘ射線光刻套用的基礎理論。對促進同步輻射Ｘ射線光刻套用和加速我國微電子工業的發展有重大意義。
