雷射澱積(laser deposition)是1993年公布的電子學名詞。
基本介紹
- 中文名:雷射澱積
- 外文名:laser deposition
- 所屬學科:電子學
- 公布時間:1993年
雷射澱積(laser deposition)是1993年公布的電子學名詞。
雷射澱積(laser deposition)是1993年公布的電子學名詞。公布時間1993年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處《電子學名詞》第一版。1...
脈衝雷射沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為脈衝雷射燒蝕(pulsed laser ablation,PLA),是一種利用雷射對物體進行轟擊,然後將轟擊出來的物質沉澱在不同的襯底上,得到沉澱或者薄膜的一種手段。簡介 隨著現代科學和技術的...
《雷射澱積類金剛石-金剛石膜生長過程原位光發射譜研究》是依託中國科學技術大學,由馬玉蓉擔任項目負責人的面上項目。中文摘要 建立了一套先進的脈衝雷射澱積系統(PLD),包括進口的Nd;YAG四倍頻脈衝雷射器、超高真空樣品室和原位光發射...
《脈衝雷射澱積法製備KTP晶體薄膜及其結構、性能研究》是王忠烈為項目負責人,北京大學為依託單位的面上項目。項目摘要 利用脈衝雷射法製備了幾種典型的氧化物功能薄膜。首次在MgO襯底上處延生長了鉀鈉鈮酸鍶鋇鐵電薄膜;在LaAlO3襯底上...
《雷射掃描原位澱積大面積超導薄膜》是依託華中科技大學,由宋文棟擔任項目負責人的青年科學基金項目。中文摘要 大面積均勻的超導薄膜在微波器件領域有著廣闊的套用前景。雖然雷射沉積技術是製備高Tc超導薄膜最有效的方法之一,但如何提高薄膜...
《脈衝雷射澱積製備光學薄膜多層膜及其新效應的研究》是依託南京大學,由劉俊明擔任項目負責人的青年科學基金項目。項目摘要 系統研究了幾種具有實用化前景的光學薄膜脈衝雷射澱積法製備,特別是ZnO、LN和BNN薄膜的製備。對不同取向KTP襯底上...
6.3.3 紫外超短脈衝雷射的聚焦技術 6.3.4 啁瞅脈衝放大(CPA)技術 6.4 KrF雷射高亮度源技術 參考文獻 第7章 準分子雷射在燃燒場診斷中的套用 7.1 概述 ……第8章 準分子雷射澱積類金剛石薄膜 第9章 準分子雷射在特種加工中...
CVD技術正朝著中、低溫和高真空兩個方向發展, 並與電漿、雷射、超音波等技術相結合, 形成了許多新型的 CVD技術。技術套用 保護塗層領域 在許多特殊環境中使用的材料往往需要有塗層保護, 以使其具有耐磨、耐腐蝕、耐高溫氧化和耐...
本項目主要研究同軸矽納米線結構的電注入光激射特徵及雷射器基礎。實驗上,通過時序控制的等離子增強化學氣相澱積方法在(N型)矽納米線外層獲得(本徵型)納米矽晶/多形碳化矽耦合發光介質,外殼層為P型摻雜非晶矽,構成同軸矽納米線微腔...
澱積率 澱積率(deposition rate)是1993年公布的電子學名詞。公布時間 1993年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《電子學名詞》第一版。
半導體雷射器又稱雷射二極體,是用半導體材料作為工作物質的雷射器。由於物質結構上的差異,不同種類產生雷射的具體過程比較特殊。常用工作物質有砷化鎵(GaAs)、硫化鎘(CdS)、磷化銦(InP)、硫化鋅(ZnS)等。激勵方式有電注入、電子束...
雷射澱積過程中生長室可以充氣,氣壓一般為10-8-100Pa 之間,所充氣體可以是氧、氮、氫、氬……氣體,也可以是電離氣體或其它活性氣體,還可以是化合物氣體。主要用途:多真空室,採用分子泵抽氣系統,真空度可達10-6Pa。具有磁控...
與超精細光刻技術配合的超微加工技術還有自對準技術、離子注入摻雜、雷射澱積布線。今後的微細加工方向,將是對這些裝置進行改良,開發分辨能力更高的抗蝕劑,以及採用能看到原子的掃描隧道顯微鏡STM和場離子顯微鏡FIM等。分類 目前出現了多...
19李林、劉軍政等,大面積雷射澱積的YBa2Cu3O7薄膜結構與形貌對10GHz下的電阻損耗的 影響,JApplPhys,1995,77(3):1165。20李林、楊曄等,雷射澱積YBa2Cu3O7薄膜上的富銅顆粒的生長模式,Acta Physica Sinica(Overseas Edition),...
25物理氣相澱積98 251工藝概述98 252濺射澱積矽99 253濺射澱積碳化矽100 254濺射澱積SiO2101 255濺射澱積類金剛石碳(DLC)101 256脈衝雷射澱積(PLD)碳薄膜102 26原子層澱積102 261...
1. 脈衝雷射澱積與雷射燒蝕技術。2. 功能陶瓷薄膜和異質結物理及套用(磁電阻,磁電、鐵電,壓電,熱釋電,電光和非線性光學) 。3. 集成鐵電,電光和非線性光學製備(鐵電存儲,鐵電場效應,微電-力系統,薄膜光波導) 。4. 固態相變...
deposition efficiency 熔敷效率 ; 沉積效率 ; 澱積效率 ; 熔敷率 electrochemical deposition 電化學澱積 ; 電化學沉積 ; 電沉積 ; 電化學沉積英語 laser deposition 雷射沉積系統 ; [冶] 雷射沉積 ; 雷射沉積法 Acid deposition 酸...
6.4.1 電漿增強化學氣相澱積 (333)6.4.2 光(增強)化學氣相澱積 (335)6.4.3 電子束感應化學氣相澱積 (335)6.5 其他薄膜成膜技術 (336)6.5.1 電化學澱積 (336)6.5.2 脈衝雷射澱積法 (337)6.5.3 溶膠...
3)採用等離子和雷射輔助技術可以顯著地促進化學反應,使沉積可在較低的溫度下進行。4)塗層的化學成分可以隨氣相組成的改變而變化,從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。5)可以控制塗層的密度和塗層純度。6)繞鍍性好。可在複雜形狀的...
發明了電漿照相記錄材料,單晶矽輻射基片加熱器,首創近距加熱法並用以製造出優秀雙面高溫超導薄膜,在國內負責率先研製成綜合性能指標達國內最高水平並達國際先進水平的脈衝雷射澱積系統,具有國際先進水平的高溫超導薄膜,分獲中科院科技...
5)採用脈衝雷射濺射鍍膜,控制雷射濺射澱積時間,脈衝雷射功率密度為5~60兆焦耳/平方米,製得InTaO₄薄膜;6)打開倉門,關閉模孔1和3同時打開模孔2,以InVO₄為靶材重複上述操作,製得InVO₄薄膜;7)通過上述工藝製得組分漸變...
選擇合適的壓電材料和襯底,利用雷射脈衝澱積、磁控濺射和離子束濺射等方法製備壓電體超晶格,結合微結構的分析、光學性質和介電性質的研究,探索並最佳化壓電體超晶格製備的工藝條件。研究布里淵區摺疊對超晶格振動色散關係的影響,布里淵區...
一、光譜學與雷射器件 1BCl3振動激發弛豫的紅外吸收研究 2強紅外場作用下BCl3振動態傳能動力學研究 ……二、材料製備與合成 1雷射電漿澱積矽膜 2EXCIMERLASERASSISTEDDEPOSITIONOFCrANDBFILMS 3脈衝CO2雷射製備納米級SiC粉末 4半導體...
reactively pulsed laser sputtering deposition 反應式脈衝雷射濺射澱積 雙語例句 Now, instead of getting an SQL0289N error, DB2 will reactively grow the last range of containers in the table space.現在,不會獲得錯誤 SQL0289N...
4.3 化學氣相澱積 4.3.1 化學氣相澱積的特點 4.3.2 化學氣相澱積的基本過程和化學反應 4.3.3 金屬有機氣相化學澱積 4.3.4 CVD的裝置 4.4 脈衝雷射沉積技術 4.4.1 脈衝雷射沉積的原理和特點 4.4.2 雷射光源 4.4...
蒸發的方法包括電阻加熱,高頻感應加熱,電子束、雷射束、離子束高能轟擊鍍料等。真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。蒸發源 將鍍料加熱到蒸發溫度並使之氣化,這種加熱裝置稱為蒸發源。最常用的蒸發源是電阻蒸發源和電子束蒸發源,特殊...