《雷射掃描原位澱積大面積超導薄膜》是依託華中科技大學，由宋文棟擔任項目負責人的青年科學基金項目。
基本介紹
- 中文名：雷射掃描原位澱積大面積超導薄膜
- 項目類別：青年科學基金項目
- 項目負責人：宋文棟
- 依託單位：華中科技大學
- 批准號：69401003
- 申請代碼：F0122
- 負責人職稱：講師
- 研究期限：1995-01-01 至 1997-12-31
- 支持經費：7（萬元）
中文摘要
大面積均勻的超導薄膜在微波器件領域有著廣闊的套用前景。雖然雷射沉積技術是製備高Tc超導薄膜最有效的方法之一，但如何提高薄膜的大面積均勻性一直是人們所致力解決的關鍵問題。為此本項目提出了採用雷射掃描沉積的方法來改善超導薄膜的大面積均勻性。首先深入研究了雷射誘導電漿的空間分布和飛行時間譜等特性；在此基礎上數值模擬了雷射掃描沉積大面積薄膜厚度分布與雷射掃描半徑及軌跡等參數的關係，為實驗研究提供了理論指導，並與大量實驗結果吻合得很好；採用該方法所澱積出的YBCO超導薄膜的均勻面積比雷射不動時所沉積薄膜的均勻面積擴大了10倍以上。結果表明：該方法是提高大面積超導或其它材料薄膜均勻性的一個行之有效的途徑；已獲國家發明專利。
