金屬電子束蒸發台

金屬電子束蒸發台是一種用於信息科學與系統科學、物理學、化學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年1月3日啟用。

基本介紹

• 中文名：金屬電子束蒸發台
• 產地：中國台灣
• 學科領域：信息科學與系統科學、物理學、化學、材料科學
• 啟用日期：2016年1月3日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 熱處理加工工藝實驗設備

技術指標

基板尺寸：2、4、6英寸； 基板加熱：最高溫度250℃，控溫精度1℃； 系統極限真空度： 2×10-7 torr； 蒸發源數量：6個坩堝； 可蒸發金屬：Ti、Al、Ni、Au、Pt、Ag、Ni等； 膜厚均勻性：≤±5%。

主要功能

電子束蒸發台常見於鍍膜工藝流程，其原理是利用加速後的電子能量打擊材料標靶，使材料標靶蒸發升騰，最終沉積到目標基底上。主要用於Ti、Al、Ni、Au、Pt、Ag、Ni等金屬的鍍膜，一爐可以依次蒸鍍6種不同金屬，可以蒸鍍高熔點金屬Pt、W等。