複合多功能離子鍍膜設備是一種用於機械工程領域的工藝試驗儀器,於2016年6月24日啟用。
基本介紹
- 中文名:複合多功能離子鍍膜設備
- 產地:中國
- 學科領域:機械工程
- 啟用日期:2016年6月24日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備
複合多功能離子鍍膜設備是一種用於機械工程領域的工藝試驗儀器,於2016年6月24日啟用。
複合多功能離子鍍膜設備是一種用於機械工程領域的工藝試驗儀器,於2016年6月24日啟用。技術指標真空室內腔尺寸暫定為600mm450mm;極限真空優於8×10-5Pa;鎧裝不鏽鋼加熱管加熱,最高加熱溫度350度;孿生...
多功能離子鍍膜機 多功能離子鍍膜機是一種用於物理學領域的分析儀器,於2008年9月3日啟用。技術指標 電子束電流200A,50V,磁控濺射5A,1000V,陰極電弧200A,60V。主要功能 用於功能薄膜的沉積和材料改性。
KyKy多功能真空離子鍍膜機是一種用於工程與技術科學基礎學科、測繪科學技術領域的分析儀器,於2005年11月14日啟用。技術指標 鐘罩尺寸:內徑Φ250mm×高度340mm 玻璃處理室:內徑Φ88mm×高度140mm 內徑:Φ88mm×高度57mm 試樣台尺寸:...
多弧離子鍍膜裝置是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年12月01日啟用。技術指標 1.大平面多弧離子鍍膜機核心技術矩形平面多弧靶,專利號為03249251.0; 2. 為實現Φ600×800mm工作區間的均勻施鍍,該設備進行了獨特的六靶...
於2009年10月31日啟用。技術指標 極限真空度:≤4x10-5 Pa (經12小時烘烤除氣後); 系統真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S; 系統從大氣開始抽氣,60分鐘可達到5x10-4 Pa;。主要功能 鍍膜。
鍍膜設備是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2010年12月17日啟用。技術指標 樣品顆粒粒度:3μm~100μm。主要功能 能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜,且所鍍薄膜緻密、...
磁控真空離子鍍膜設備 磁控真空離子鍍膜設備是一種用於化學領域的科學儀器,於2017年5月19日啟用。技術指標 全不鏽鋼真空室,可以實現濺射和陰極弧源鍍膜。主要功能 可以製備各類金屬、非金屬的功能性薄膜。
真空多弧離子鍍膜設備 真空多弧離子鍍膜設備是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年12月08日啟用。技術指標 最高溫度500℃;極限真空6*10E-4Pa。主要功能 樣品鍍膜。
超高真空磁控濺射及離子鍍沉積設備是一種用於材料科學領域的計量儀器,於2011年1月1日啟用。技術指標 · 在20 GHz時達108 dB的動態範圍 · 在1 kHz的IFBW下軌跡噪聲<0.006 dB · 量測速度<9 µsec/point · 32個量測頻道,...