真空物理沉積是一種用於信息科學與系統科學領域的分析儀器,於2018年10月9日啟用。
基本介紹
- 中文名:真空物理沉積
- 產地:中國
- 學科領域:信息科學與系統科學
- 啟用日期:2018年10月9日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 透射電鏡
真空物理沉積是一種用於信息科學與系統科學領域的分析儀器,於2018年10月9日啟用。
真空物理沉積是一種用於信息科學與系統科學領域的分析儀器,於2018年10月9日啟用。技術指標真空檢測儀器。1主要功能測量用。1...
真空沉積技術是真空鍍膜。真空氣相沉積是利用熱蒸發或輝光放電、弧光放電等物理過程,在基材表面沉積所需塗層的技術。它包括真空蒸發鍍膜、離子鍍膜和濺射。另外,引入反應氣體 ( O2, N2, CH4, B2H6, H2S, …)可以在低溫條件下生成氧化...
真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。真空電鍍概述 為了滿足更安全、更節能、降低噪聲、減少污染物排放的要求,在表面處理工藝上,真空電鍍已經成為...
真空物理沉積系統 真空物理沉積系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學領域的儀器,於2017年11月28日啟用。技術指標 380V,50Hz,PC控制。主要功能 測量用。
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)技術是指在真空條件下採用物理方法將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態原子或分子,或部分電離成離子,並通過低壓氣體(或電漿)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術, 物理...
真空鍍膜技術一般分為兩大類,即物理氣相沉積(PVD)技術和化學氣相沉積(CVD)技術。物理氣相沉積技術是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。製備硬質反應膜大多以...
真空物理[學]真空物理[學](vacuum physics)是2019年公布的物理學名詞。公布時間 2019年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《物理學名詞》 (第三版)。
真空鍍膜沉積系統是一種用於物理學、化學、材料科學領域的儀器,於2015年08月06日啟用。技術指標 機械泵(DUO)351台,抽速10L/s。真空計(PKR251)1套,量程5*10-9mbar~1000mbar。插板閥(HVA11221-0604R)1套,極限真空1*10-10...
超高真空PVD沉積薄膜設備 超高真空PVD沉積薄膜設備是一種用於材料科學、物理學領域的工藝試驗儀器,於2012年4月1日啟用。技術指標 超高真空蒸發鍍膜專用。主要功能 用於真空閥製備高質量CIGS薄膜。
光柵沉積真空系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2019年4月11日啟用。技術指標 極限真空:≤3.0×10-5Pa 分子泵抽速:1600L/s 真空計測量範圍:105~10-8Pa 系統漏率:5×10-7PaL/S 沉積室:1400(L) ×580(h) ×...
。極限真空優於2×10-5pa。15分鐘內能夠從常壓抽到真空度不低於1×10-4pa;腔室氣體泄漏速率小於7×10-6pa/秒。系統控制軟體可對整個設備進行監控。主要功能 用電弧放電方式使靶材蒸發並沉積於基片上的真空物理鍍膜設備。
實驗室致力於納米材料及其物理以及其在信息器件和能源器件中套用的基礎研究,取得了一系列具有國際前沿水平的成果。依託單位 中國科學院真空物理重點實驗室依託:中國科學院物理研究所。實驗室即為中國科學院物理研究所納米物理與器件實驗室,...
蒸發沉積 蒸發沉積(evaporating deposition)是2005年公布的航天科學技術名詞。公布時間 2005年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處 《航天科學技術名詞》第一版。