光柵沉積真空系統

光柵沉積真空系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2019年4月11日啟用。

基本介紹

• 中文名：光柵沉積真空系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2019年4月11日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

極限真空：≤3.0×10-5Pa 分子泵抽速：1600L/s 真空計測量範圍：105~10-8Pa 系統漏率：5×10-7PaL/S 沉積室：1400(L) ×580(h) ×400(w),16mm厚帶加強筋 矩形磁控靶：靶材5英寸×15英寸 圓形磁控靶：4英寸。

主要功能

用於搭建雷射匯聚原子沉積光柵系統，製備光柵計量傳遞標準。