熱場發射掃描電鏡系統是一種用於地球科學領域的分析儀器，於2017年11月28日啟用。
熱場發射掃描電鏡系統是一種用於地球科學領域的分析儀器，於2017年11月28日啟用。技術指標 熱場發射掃描電鏡二次電子像解析度：0.8nm@15KV、1.6nm@1KV，Schottky型場發射電子源，掃描透射像探測器，帶能譜儀、EBSD、冷台、臨界點乾燥...
場發射掃描電鏡系統 場發射掃描電鏡系統是一種用於機械工程領域的分析儀器，於2013年11月13日啟用。技術指標 場發射掃描電鏡，配有能譜儀、熱台。最大放大倍數可達30萬倍。主要功能 表面形貌、成分測試。
熱場發射掃描電鏡是一種用於物理學、材料科學、能源科學技術領域的分析儀器，於2012年10月22日啟用。技術指標 1.放大倍數：35—90萬倍；2.解析度：工作電壓15kV時解析度為1.0nm3.加速電壓：0.2Kv—30Kv;4.能譜：探測元素範圍B5-U92...
解決方式一般為請維修工程師上門維修,除花費時間和費用外,也造成了對電鏡操作者的心裡束縛。筆者以德國蔡司ULTRA PLUS掃描電子顯微鏡為例,從環境條件、光學系統、真空系統及附屬檔案設施4個方面總結了熱場發射掃描電子顯微鏡運行狀態的幾種檢查...
熱場發射環境掃描電鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器，於2005年9月15日啟用。技術指標 Quanta 400 FEG場發射掃描電子顯微鏡是表面分析重要的表征工具之一，具有靈活先進的自動化操作系統。具有三種成像真空模式--...
超高分辨熱場發射掃描電鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2013年9月10日啟用。技術指標 加速電壓0.3-30kV，解析度1nm，放大倍數18倍至30萬倍連續可調，成像信號：二次電子、背散射電子和特徵X射線。主要功能 固體物質表面形貌觀察...
場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2013年9月13日啟用。技術指標 二次電子解析度 1.0nm （加速電壓15kV、WD＝4mm） 1.3nm （加速電壓1kV、WD＝1.5mm） 加速電壓 0.1～30kV 觀測倍率 20～8000,000(...
利用這一系統獲得的鋯石高清晰CL圖像及CL譜圖分析結果顯示其在鋯石等發光礦物的微區結構特徵研究和成因類型鑑別中有廣泛的套用前景。場發射掃描電子顯微鏡（簡稱場發射掃描電鏡）是研究微觀世界的重要工具之一，為人們在微納米尺度上研究物質...
ZEISS的場發射掃描電鏡全部採用新一代專利鏡筒(GEMINI)設計，具有優良的高、低加速電壓性能。創新的InLens設計是目前世界上唯一真正的內置鏡筒電子束光路上二次電子探測器，具有最佳的靈敏度和最高的接收效率，而且只接收來自樣品表面的二次...
超高分辨冷場發射掃描電鏡是一種用於化學、生物學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，於2019年10月11日啟用。技術指標 1、二次電子解析度：≥1.0nm (加速電壓15kV)、≥2.0nm (加速電壓1kV)、≥1.3nm (照射電壓1kV，使用...
日立場發射掃描電鏡是一種用於化學、生物學領域的分析儀器，於2012年7月19日啟用。技術指標 理論放大值為八十萬倍。主要功能 採用了新型 ExB 式探測器和電子束減速功能, 提高了圖象質量(15 kV 下解析度 1 nm) ， 尤其是將低加速...
