極紫外光刻系統

2021年12月14日，中國工程院首次評選和發布“2021全球十大工程成就“，其中包括極紫外光刻系統。

發展歷史

極紫外光刻系統以波長13.5納米的極紫外光為光源，可實現將晶片製程最小工藝節點推進至7納米、5納米甚至3納米。

2019年，荷蘭阿斯麥公司成功推出新一代極紫外光刻系統，代表了當今最先進的第五代光刻系統，可望將摩爾定律物理極限推向新的高度。