光譜式橢偏儀是一種用於物理學、化學領域的分析儀器,於2013年01月06日啟用。
基本介紹
- 中文名:光譜式橢偏儀
- 產地:匈牙利
- 學科領域:物理學、化學
- 啟用日期:2013年01月06日
- 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線衍射儀
光譜式橢偏儀是一種用於物理學、化學領域的分析儀器,於2013年01月06日啟用。
光譜式橢偏儀是一種用於物理學、化學領域的分析儀器,於2013年01月06日啟用。技術指標 光譜範圍:深紫外,可見光,近紅外(190nm~2400nm)波長解析度:全譜段要求不大於0.5nm厚度測量範圍:1nm-10um,厚度測量精度:0.1A微光斑全自動...
IR-VASE型紅外光譜橢偏儀為旋轉補償器(RCE)式布置方式,主要由紅外光源、起偏器、旋轉補償器等部件組成,可測光譜範圍為1.7-30μm。在1-64cm-1範圍內共7種解析度可供選擇。 可測物理量為:固體材料(含薄膜)光學常數、斜入射...
光譜型成像橢偏儀 光譜型成像橢偏儀是一種用於物理學、材料科學領域的物理性能測試儀器,於2017年09月01日啟用。技術指標 400-1700nm測量範圍。主要功能 測量折射率。
線上光譜型橢偏儀 線上光譜型橢偏儀是一種用於物理學、材料科學領域的物理性能測試儀器,於2013年09月10日啟用。技術指標 245nm--1680nm,自動變角。主要功能 實時監測薄膜生長過程中的光學參量。
相調製光譜橢偏儀 相調製光譜橢偏儀是一種用於物理學領域的分析儀器,於2016年12月1日啟用。技術指標 光譜範圍(260~2000)nm,橢偏角不確定度0.4度。主要功能 測試光學薄膜橢偏角、光學膜厚、折射率等。
成像橢偏技術可實現原位橢偏測量 成像橢偏儀可實現各種液體環境下的橢偏分析 成像橢偏技術可以實現和多種技術聯用,如布魯斯特角顯微鏡、表面等離子共振、原子力顯微鏡、石英晶體微天平、LB槽、反射光譜儀、太赫茲光譜儀以及拉曼光譜儀等等。傳...
雷射橢偏儀,通常雷射光源的功率和波長可選。在測量過程中,需要以獲得橢偏數據,並對橢偏數據模擬分析從而得到測量結果,如薄膜厚度、光學常數以及材料微結構測量等。套用 ■晶矽太陽能電池絨面上的減反膜測量。■ ■可以測量拋光片,...
紅外橢偏儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年12月23日啟用。技術指標 ·Wavelength range: 400 cm-1-6000 cm-1 ;·Separate ellipsometer optics, ellipsometer uses external port of FT-IR instrument ;·Complete accessible...
測量參數:反射橢偏ψ(0-90度)和Δ(0-360度)或Tan(ψ),Cos(Δ)透射橢偏ψ(0-90度)和Δ(0-360度)或Tan(ψ),Cos(Δ)退偏15個穆勒元,相對於M11;橢偏儀光譜範圍193nm到1680nm,1050通道;光譜解析度1nm解析度(波長小於...
僅管有許多的困難,原位橢圓偏振在於薄膜沉積及改質等製程控制,已漸變為相當重要的工具。此技術可用單一波長或光譜式的橢偏儀,光譜式原位橢偏儀若採用多通道之偵檢器,如CCD,則可同時量測其研究光譜範圍內所有波長之橢圓偏振參數。橢圓...
《表面電漿共振的橢偏測量與超薄介質層表征》是依託中國科學院上海光學精密機械研究所,由方明擔任項目負責人的青年科學基金項目。項目摘要 金屬表面超薄介質層(d 結題摘要 金屬表面超薄介質層(d ...
穆勒矩陣橢偏儀是一種用於信息科學與系統科學、力學、物理學、信息與系統科學相關工程與技術領域的分析儀器,於2017年11月23日啟用。技術指標 1. 光譜範圍:覆蓋深紫外到近紅外波段200-1650nm; 2. 光斑大小:大光斑模式3mm,微光斑模式...
(3) 利用研製的廣義成像橢偏儀首次實現了納米壓印工藝中矽基光柵模板、光刻工藝中光刻膠光柵結構、以及快閃記憶體工藝中典型深刻蝕溝槽納米結構的大面積準確測量。實驗結果表明,廣義成像橢偏儀既可以實現單像素大小照明光斑區域內光譜穆勒矩陣的準...
研修及合作研究,形成了全方位合作交流的新局面。實驗室有變角光譜式橢偏儀、大功率單頻綠光雷射器、OMA光學多道分析儀、寬頻光譜分析儀、高精度CCD成像儀等一批先進的科研儀器,為科研工作的順利進行提供了強有力保障。