高性能微區X螢光光譜儀

高性能微區X螢光光譜儀

高性能微區X螢光光譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年12月9日啟用。

基本介紹

  • 中文名:高性能微區X螢光光譜儀
  • 產地:德國
  • 學科領域:材料科學
  • 啟用日期:2017年12月9日
  • 所屬類別:分析儀器 > 光譜儀器 > 原子螢光光譜儀
技術指標,主要功能,

技術指標

a. 成套的高分辨的µ-XRF,能滿足元素Na11-U92的成分分析; b. 12層薄膜和基體的多層薄膜分析功能; c. ※高分辨元素分布成像,像素達到25M pixels,最大成像面積190*160mm。

主要功能

(1)特殊鋼成分檢測,一次同時測量La-U多種元素,滿足塊狀、粉末、液體樣品的測量。  (2)金屬及合金材料   包括高純金屬,濺射靶材,稀貴金屬,超級合金等材料的痕量雜質的半定量和定量分析。 (3)。

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