X射線螢光顯微分析儀

X射線螢光顯微分析儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2005年6月8日啟用。

基本介紹

• 中文名：X射線螢光顯微分析儀
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2005年6月8日
• 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀

技術指標

分析元素Na-U，能量解析度FWHM＜150eV，最大可分析樣品400mm×350mm×150mm，X射線束徑10um、100um。

主要功能

材料分析，微區成分分析，光學圖像觀察，內部異物分析，圖像處理。