電弧離子鍍是由Mattox於1964年首先公開了所發明的技術。
電弧離子鍍是由Mattox於1964年首先公開了所發明的技術。
電弧離子鍍是由Mattox於1964年首先公開了所發明的技術。...... 電弧離子鍍是由Mattox於1964年首先公開了所發明的技術。離子鍍技術。它是在蒸發鍍膜的同時,用來源於...
電弧離子鍍技術屬於冷場致弧光放電,電弧離子鍍技術工藝過程如下。烘烤加熱工件及氨離子復擊淨化。工件經清洗人爐後抽真空。當真空度達到6X10-3Pa後,開啟烘烤加熱...
其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法)、多弧離子鍍(陰極電弧離子鍍)等。離子鍍重要性 編輯 在航空及航宇工業中,各種飛機、...
離子密度-脈衝真空放電離子密度的測量,由於採用脈衝放電沉積技術能夠克服連續電弧離子鍍沉積時產生的液滴及負偏壓放電的缺點,特別是它在鍍制類金剛石薄膜中顯示出來的...
6 8 2活性反應離子鍍裝置6 8 3空心陰極放電離子鍍膜裝置6 8 4射頻放電離子鍍裝置6 8 5磁控濺射離子鍍膜裝置6 8 6真空陰極電弧離子鍍膜裝置...
6.8.2活性反應離子鍍裝置 6.8.3空心陰極放電離子鍍膜裝置 6.8.4射頻放電離子鍍裝置 6.8.5磁控濺射離子鍍膜裝置 6.8.6真空陰極電弧離子鍍膜裝置 6....
不同的沉積方法所得到的DLC膜表面光潔度也是不同的,廣州有色金屬研究院採用離子源技術沉積的DLC膜表面質量明顯優於電弧離子鍍。DLC膜具有很好的抗粘結性,特別是對...
物理氣相沉積的主要方法有,真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧電漿鍍、離子鍍膜,及分子束外延等。發展到目前,物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合...
PVD基本方法:真空蒸發、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。 [1] ...
(13)863子課題:電弧離子鍍製備基於PDP套用的MgO保護層,50萬,批准號:60471023,2004.1-2005.12, (與何振輝等合作主持、第4申請人). (14)納米碳素生物塗層材料的...
2.3離子鍍沉積2.3.1基本原理和特點2.3.2常見的離子鍍設備和工作原理2.3.3電弧離子鍍的工藝參數2.3.4電弧離子鍍塗層的套用2.4化學氣相沉積...
1995/3-1998/6 金剛石薄膜製備相關技術研究;真空電弧離子鍍膜技術研究;表面噴塗技術研究;智慧型塗層技術的研究 。參與國家九五攻關項目:大面積掃探針顯微鏡的研製;主持...
▪ 電弧離子鍍技術 ▪ 微波ECR全方位離子注入 ▪ 雷射表面改性技術 三束材料改性國家重點實驗室(大連理工大學)概況簡介 編輯 三...
偏壓電源(Bias power supply )是真空電弧離子鍍及其它真空物理氣相沉積設備中一個重要組件,在鍍膜工藝流程中為工件提供負(或正)偏壓。...
3.10電弧離子鍍3.11磁控濺射鍍3.12離子束及其在氣相沉積方面的套用參考文獻第4章 電漿增強化學氣相沉積技術1 電漿增強化學氣相沉積技術機理...
[5]呂樹國;劉常升;張罡;畢監智;金光;李玉海;.氮離子束轟擊對電弧離子鍍已沉積的TiAlN膜層性能影響的研究[J]鋼鐵研究學報.2010,(03)...
細化表面晶粒,通過對金剛石表面進行拋光來獲得較低的表面粗糙度,利用電弧離子鍍設備,在電極和陰極金屬靶材之間引發電弧放電,然後在電弧離子鍍設備中對金剛石塗層施加...
發現了一系列新準晶和大塊非晶合金,建立了其共同的成份規律;利用離子注入合成了高質量的摻碳半導體金屬矽化物薄膜;此外在脈衝電弧離子鍍、脈衝電子束、雷射誘發自...
2、用電弧離子鍍沉積氮化鈦鈮超硬質梯度薄膜的方法,ZL00108513.1。中文百科內容由網友共同編輯,如您發現自己的詞條內容不準確或不完善,歡迎使用本人詞條編輯服務(...
電弧離子鍍製備基於PDP套用的MgO保護層(“863”子課題,負責人)2004;阿爾法磁譜儀(AMS)軌跡探測器熱控制系統的研製(科技部國際合作重點項目,具體負責人,01/2004-...