電弧離子鍍技術屬於冷場致弧光放電，電弧離子鍍技術工藝過程如下。烘烤加熱工件及氨離子復擊淨化。工件經清洗人爐後抽真空。當真空度達到6X10-3Pa後，開啟烘烤加熱電源，對工件進行加熱。達到一定溫度後，通人氨氣，真空度降至2~ 3Pa,接通工件偏壓電源，電壓調至800~1000V。此時產生輝光放電，獲得氬離子。氬離子在負偏壓電場的作用下，對工件進行轟擊淨化。裝擊時間10-20min。
沉積鐵底層。真空度調至3X 10-1Pa,工作偏壓調至500V.逐個引然陰極弧源產生冷場致弧光放電。此時從陰極弧源表面發射出鐵原子和鈦離子。在工件負偏壓的作用下沉積到工件形成鈦底層，以提高硬質塗層的附著力。鐵金屬放電時，真空室內的電漿的光為蔚藍色。
沉積氮化鈦等化合物塗層。真空度調整到(3~5)X10-1Pa,工作偏壓調至100~200V，通人氦氣後沉積氮化鈦，此時真空室內的電漿的光為櫻紅色。調整所通人的氦氣和氮氣比例，可以適當調整塗層的色澤。還可以通人C2H2、O2 等，可以獲得TiC、TiO2 等，沉積室內的輝光相應地變為其他色澤。
