| 中文名稱 | 雷射輔助化學氣相沉積 |
| 英文名稱 | laser assisted chemical vapor deposition |
| 定 義 | 利用雷射光子能量促進化學反應降低反應溫度的化學氣相沉積技術。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），半導體材料（二級學科），半導體材料製備（三級學科） |
| 中文名稱 | 雷射輔助化學氣相沉積 |
| 英文名稱 | laser assisted chemical vapor deposition |
| 定 義 | 利用雷射光子能量促進化學反應降低反應溫度的化學氣相沉積技術。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），半導體材料（二級學科），半導體材料製備（三級學科） |
中文名稱 雷射輔助化學氣相沉積 英文名稱 laser assisted chemical vapor deposition 定義 利用雷射光子能量促進化學反應降低反應溫度的化學氣相沉積技術。 套用學科 ...
雷射化學氣相沉積是通過使用雷射源產生出來的雷射束實現化學氣相沉積的一種方法 ...... 雷射化學氣相沉積是通過使用雷射源產生出來的雷射束實現化學氣相沉積的一種方法...
化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成塗層或納米材料的方法,是半導體工業中套用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術,包括大範圍的絕緣材料,大多數...
雷射增強化學氣相沉積 ...... 雷射增強化學氣相沉積V百科往期回顧 詞條統計 瀏覽次數:次 編輯次數:3次歷史版本 最近更新: 創建者:w_ou猜你喜歡...
化學氣相沉積是一種化工技術,該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。化學氣相澱積是近幾十年發展...
化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition 簡稱CVD) 是利用氣態或蒸汽態的物質在氣相或氣固界面上發生反應生成固態沉積物的過程。...
化學氣相沉積是通過氣相物質在工件表面上進行化學反應,反應生成物在工件表面形成固態膜層的工藝方法。它採用含有成膜元素的物質達到沉積單晶、多晶或非晶的薄膜,套用...
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等離子化學氣相沉積PlasnaH chemical }apar deposition;1'C;VTI化學氣相沉積} L`1'T3 )法是製備無機材料,尤其是無機薄膜和塗層的一種重要手段,用等離子輔助CVr}...
CVD製備超導材料是美國無線電公司( RCA)在20世紀60年代發明的, 用化學氣相沉積...CVD技術由於採用電漿、雷射、電子束等輔助方法降低了反應溫度, 使其套用的...
2.3化學氣相沉積技術702.3.1化學氣相沉積理論702.3.2低壓化學氣相沉積(LPCVD)772.3.3雷射輔助化學氣相沉積772.3.4有機金屬化學氣相沉積79...
金剛石膜是指用低壓或常壓化學氣相沉積(CVD)方法人工合成的金剛石膜。金剛石膜的製備方法有熱化學氣相沉積(TCVD)和電漿化學氣相沉積(PCVD)兩大類。...
(如金屬蒸氣真空弧離子源離子注入、離子束增強/輔助沉積、等離子源離子注入、雷射表面合金化、雷射化學氣相沉積、電漿輔助化學氣相沉積、雙層輝光電漿表面合金化...
射頻電漿化學氣相沉積法 (RF-PECVD)是PECVD中製備CBN的最典型的方法。此外,還有雷射輔助電漿化學氣相沉積法(LA-PECVD)、雙源電漿化學氣相沉積法(DB-...