中文名稱 | 雷射熱化學氣相沉積 |
英文名稱 | laser thermal chemical vapor deposition |
定 義 | 雷射的能量只用於局部加熱基底,沉積只發生在基底被加熱的部分的化學氣相沉積。 |
套用學科 | 材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料合成、製備與加工(三級學科),薄膜製備技術(四級學科) |
中文名稱 | 雷射熱化學氣相沉積 |
英文名稱 | laser thermal chemical vapor deposition |
定 義 | 雷射的能量只用於局部加熱基底,沉積只發生在基底被加熱的部分的化學氣相沉積。 |
套用學科 | 材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料合成、製備與加工(三級學科),薄膜製備技術(四級學科) |
中文名稱 雷射熱化學氣相沉積 英文名稱 laser thermal chemical vapor deposition 定義 雷射的能量只用於局部加熱基底,沉積只發生在基底被加熱的部分的化學氣相沉積...
中文名稱 雷射增強化學氣相沉積 英文名稱 laser enhancement chemical vapor deposition 定義 利用雷射光子能量促進化學反應降低反應溫度的化學氣相沉積。 套用學科 ...
雷射化學氣相沉積是通過使用雷射源產生出來的雷射束實現化學氣相沉積的一種方法 ... 雷射化學氣相沉積是通過使用雷射源產生出來的雷射束實現化學氣相沉積的一種方法...