| 中文名稱 | 雷射化學氣相沉積 |
| 英文名稱 | laser chemical vapor deposition |
| 定 義 | 反應由雷射激發的化學氣相沉積方法。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科） |
基本介紹
- 中文名：雷射化學氣相沉積
- 外文名：無
- 類型：氣相沉積
- 特點：雷射化學
雷射化學氣相沉積是通過使用雷射源產生出來的雷射束實現化學氣相沉積的一種方法
| 中文名稱 | 雷射化學氣相沉積 |
| 英文名稱 | laser chemical vapor deposition |
| 定 義 | 反應由雷射激發的化學氣相沉積方法。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科） |
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