表面分析技術(2020年中山大學出版社出版的圖書)

內容簡介

本書介紹表面分析主要技術，包括俄歇電子能譜、X射線光電子能譜、二次離子質譜、低能粒子散射和盧瑟福背散射技術、表面分子振動光譜技術以及擴展X射線吸收精細結構和掃描隧道顯微技術、原子力顯微技術等。

本書主要闡述上述表面分析技術的基本原理和實用樣品實例分析，每章結尾處還附有相關的分析練習題供讀者訓練，判斷自己對書中知識內容掌握的程度。

圖書目錄

第1章引言

1.1 如何定義表面

1.2 表面有多少個原子

1.3 需要的信息

1.4 表面靈敏度

1.5 輻射效應與表面損傷

1.6 數據的複雜性

第2章俄歇電子能譜

2.1 引言

2.2 俄歇過程的原理

2.2.1 俄歇峰的動能

2.2.2 電離截面

2.2.3 俄歇電子和光子出射的比較

2.2.4 電子背散射

2.2.5 逃逸深度

2.2.6 化學位移

2.3 儀器設備

2.3.1 電子源

2.3.2 譜儀

2.3.3 採集方式

2.3.4 檢測限

2.3.5 儀器校準

2.4 定量分析

2.5 深度剖析

2.5.1 薄膜校準標樣

2.5.2 深度解析度

2.5.3 濺射速率

2.5.4 擇優濺射

2.5.5 λ-修正

2.5.6 AES剖析中的化學位移

2.6 結論

思考題

第3章化學分析用電子能譜

3.1 概述

3.1.1 基本ESCA實驗

3.1.2 光電效應和ESCA的歷史

3.1.3 ESCA提供的信息

3.2 X射線與物質的相互作用、光電效應和固體的光電發射

3.3 結合能和化學位移

3.3.1 Koopmans定理

3.3.2 初態效應

3.3.3 終態效應

3.3.4 結合能參考基準

3.3.5 絕緣體的電荷補償

3.3.6 峰寬

3.3.7 峰擬合

3.4 非彈性平均自由程和採樣深度

3.5 定量

3.5.1 定量方法

3.5.2 定量標準

3.5.3 定量實例

3.6 譜圖特徵

3.7 儀器

3.7.1 ESCA實驗的真空系統

3.7.2 X射線源

3.7.3 分析器

3.7.4 數據系統

3.7.5 附屬檔案

3.8 譜圖質量

3.9 深度剖析

表面分析技術(2020年中山大學出版社出版的圖書)

基本介紹

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