《材料表面現代分析方法》是2010年化學工業出版社出版的圖書。
基本介紹
- ISBN：9787122068330
- 頁數：226頁
- 出版社：化學工業出版社
- 出版時間：2010年1月1日
- 裝幀：平裝
- 開本：16
- 正文語種：中文
內容簡介,編輯推薦,目錄,
內容簡介
《材料表面現代分析方法》首先在緒論部分介紹了材料表面及其特性以及材料表面分析的主要內容，然後在其他章節介紹了電子與固體樣品的相互作用、電子光學基礎和研究材料表面常用的現代分析方法，包括透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡、電子探針、X射線光電子能譜、俄歇電子能譜、二次離子質譜、場離子顯微鏡與原子探針、掃描隧道電子顯微鏡、原子力顯微鏡、掠入射X射線衍射等。對這些表面分析方法的基本原理、儀器結構、技術特點和套用範圍等精華進行了較為系統的論述。該書不僅可作為材料科學與工程專業研究生教材，以及該專業本科生教學參考書，而且對直接從事表面科學的研究人員、分析測試人員和涉及表面現象的工程技術人員均有較大的參考價值。
編輯推薦
《材料表面現代分析方法》：研究生規劃教材
目錄
第1章 緒論1
1.1 表面科學及其發展1
1.2 表面科學的套用2
1.3 表面的種類4
1.4 表面的特性5
1.5 表面分析的內容6
1.6 表面分析的基本原理及儀器基本組成7
1.7 表面分析的發展9
1.8 表面分析的套用領域10第2章 電子與固體樣品的相互作用12
2.1 電子與固體樣品的相互作用區域12
2.2 固體原子對入射電子的散射作用13
2.3 入射電子與樣品相互作用產生的信號16
2.3.1 背散射電子16
2.3.2 二次電子17
2.3.3 吸收電子19
2.3.4 透射電子19
2.3.5 特徵X射線20
2.3.6 俄歇電子21
2.3.7 陰極螢光與電子感生電導21
2.4 由電子與材料相互作用產生的分析方法22
第3章 電子光學基礎23
3.1 光學顯微鏡的解析度23
3.2 電子波的波長25
3.3 電子透鏡26
3.3.1 靜電透鏡26
3.3.2 電磁透鏡26
3.4 電磁透鏡的像差及解析度29
3.4.1 球差30
3.4.2 像散30
3.4.3 色差31
3.4.4 解析度31
3.5 電磁透鏡的景深和焦長32
3.5.1 景深32
3.5.2 焦長33
第4章 透射電子顯微鏡35
4.1 透射電鏡的工作原理和結構35
4.1.1 工作原理35
4.1.2 照明系統36
4.1.3 成像系統38
4.1.4 觀察與記錄系統41
4.1.5 真空系統41
4.1.6 供電控制系統41
4.2 選區電子衍射41
4.2.1 電子衍射原理41
4.2.2 電子衍射特點45
4.2.3 選區電子衍射操作46
4.2.4 電子衍射譜的基本特徵與指數標定47
4.3 電子顯微圖像56
4.3.1 成像操作56
4.3.2 像襯度57
4.4 試樣製備62
4.4.1 薄膜法62
4.4.2 復型法64
4.4.3 粉末樣品製備64
4.4.4 薄膜材料樣品的製備64
4.5 透射電鏡在表面分析中的套用65
4.5.1 薄膜的平面分析65
4.5.2 薄膜的橫截面分析66
第5章 掃描電子顯微鏡71
5.1 掃描電鏡的結構和工作原理71
5.1.1 掃描電鏡的結構71
5.1.2 掃描電鏡的工作原理75
5.2 掃描電鏡的特點75
5.3 掃描電鏡的幾種電子圖像分析77
5.3.1 二次電子像的襯度77
5.3.2 背散射電子像的襯度79
5.3.3 吸收電子像81
5.4 掃描電鏡樣品的製備82
5.5 掃描電鏡在表面分析中的套用83
5.5.1 材料表面組織形態的觀察研究83
5.5.2 斷口形貌的觀察研究84
5.5.3 顯示微區成分差別和鑑別物相87
5.5.4 納米結構材料形態的觀察研究87
第6章 電子探針89
6.1 電子探針的工作原理與結構89
6.2 波譜儀的工作原理及結構90
6.2.1 工作原理90
6.2.2 分光系統91
6.2.3 檢測系統93
6.2.4 波譜儀的特點94
6.3 能譜儀的工作原理與結構95
6.3.1 工作原理95
6.3.2 X射線探測器95
6.3.3 多道脈衝高度分析器96
6.3.4 能譜儀的特點96
6.3.5 WDS與EDS工作特性比較97
6.4 電子探針的分析方法及套用98
6.4.1 定點分析98
6.4.2 線掃描分析100
6.4.3 面掃描分析101
第7章 X射線光電子能譜105
7.1 X射線光電子能譜儀的基本原理105
7.2 X射線光電子能譜儀的結構107
7.2.1 超高真空系統108
7.2.2 快速進樣室及樣品分析室108
7.2.3 離子源108
7.2.4 X射線激發源109
7.2.5 能量分析器109
7.2.6 探測器110
7.2.7 計算機系統110
7.3 樣品的製備110
7.4 X射線光電子能譜分析的特點111
7.5 X射線光電子能譜分析的套用112
7.5.1 元素及其化學狀態的定性分析112
7.5.2 定量分析120
7.5.3 元素沿深度方向分布的分析121
7.5.4 成像技術面分析123
第8章 俄歇電子能譜124
8.1 俄歇電子能譜的基本原理124
8.1.1 俄歇電子的產生124
8.1.2 俄歇電子的能量125
8.1.3 俄歇躍遷機率126
8.1.4 平均自由程與平均逃逸深度126
8.1.5 俄歇電子能譜127
8.2 俄歇電子能譜儀128
8.3 分析樣品的製備129
8.4 俄歇電子能譜法的特點131
8.5 俄歇電子能譜分析的套用131
8.5.1 表面元素定性鑑定132
8.5.2 表面元素的半定量分析133
8.5.3 表面元素的化學價態分析135
8.5.4 元素沿深度方向分布的分析135
8.5.5 微區分析136
第9章 二次離子質譜140
9.1 儀器構成與基本原理140
9.2 入射離子與樣品的相互作用141
9.2.1 濺射產額141
9.2.2 二次離子產額142
9.3 一次離子源143
9.4 質量分析器145
9.5 離子檢測器148
9.6 真空系統149
9.7 二次離子質譜儀150
9.7.1 二次離子質譜儀分類150
9.7.2 離子探針151
9.7.3 飛行時間質譜儀152
9.7.4 質譜圖的形式153
9.8 二次離子質譜儀的主要性能154
9.9 二次離子質譜儀的主要特點155
9.10 二次離子質譜的套用156
9.10.1 微量元素分析156
9.10.2 表面成分點分析157
9.10.3 元素麵分布分析158
9.10.4 深度方向成分分析158
9.10.5 三維成分分析159
9.10.6 同位素分析160
第10章 場離子顯微鏡與原子探針161
10.1 場離子顯微鏡161
10.1.1 場離子顯微鏡的結構和原理161
10.1.2 場離子顯微鏡的套用164
10.2 原子探針167
10.2.1 原子探針的結構和原理167
10.2.2 三維原子探針169
10.2.3 原子探針的套用169
10.3 樣品的製備177
10.3.1 由絲狀材料製備樣品的方法177
10.3.2 由薄膜材料製備樣品的方法178
第11章 掃描隧道電子顯微鏡182
11.1 掃描隧道電鏡的結構及工作原理182
11.1.1 隧道電流182
11.1.2 基本結構及工作原理182
11.1.3 工作模式184
11.2 掃描隧道電鏡的特點185
11.3 掃描隧道電鏡的套用186
11.3.1 材料表面結構特徵研究186
11.3.2 材料表面結構相變研究186
11.3.3 液?固界面的電化學研究187
11.3.4 表面吸附研究187
11.3.5 表面化學研究188
11.3.6 表面原子分子加工操縱及納米結構構築188
第12章 原子力顯微鏡190
12.1 原子力顯微鏡的結構及工作原理190
12.2 原子力顯微鏡的成像模式192
12.2.1 接觸模式193
12.2.2 非接觸模式193
12.2.3 輕敲模式193
12.3 原子力顯微鏡的特點194
12.4 原子力顯微鏡的套用194
12.4.1 薄膜材料的研究194
12.4.2 材料失效機理的研究195
12.4.3 納米摩擦學的研究197
12.4.4 現場電化學研究202
12.4.5 生物醫學研究203
12.4.6 高聚物表面研究204
12.4.7 測量針尖?樣品間的相互作用力曲線206
12.4.8 測量薄膜材料和納米結構機械性能209
12.4.9 納米結構加工211
12.4.10 研究金屬和半導體表面212
第13章 掠入射X射線衍射分析213
13.1 掠入射X射線衍射基本原理213
13.2 掠入射X射線衍射幾何214
13.3 掠入射X射線衍射的套用215
13.3.1 薄膜的相分析215
13.3.2 表面層或薄膜的結構分析216
13.3.3 表面層或薄膜的應力分析219
13.3.4 薄膜厚度的測定220
參考文獻223
