脈衝雷射沉積鍍膜機系統是一種用於物理學領域的科學儀器,於2014年1月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:脈衝雷射沉積鍍膜機系統
- 產地:中國
- 學科領域:物理學
- 啟用日期:2014年1月1日
脈衝雷射沉積鍍膜機系統是一種用於物理學領域的科學儀器,於2014年1月1日啟用。
脈衝雷射沉積鍍膜機系統是一種用於物理學領域的科學儀器,於2014年1月1日啟用。技術指標真空室真空最高可達6×10-5Pa,加熱溫度>900度。1主要功能雷射沉積。1...
脈衝雷射沉積鍍膜系統是一種用於動力與電氣工程領域的雷射器,於2016年4月9日啟用。技術指標 1、最大wafer直徑 2” 。2、最大靶材數量 6個1” 或3個2” 。3、壓力(Torr) 10-6 。4、真空室直徑 18”. 5、最高樣品溫度 850...
脈衝雷射沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為脈衝雷射燒蝕(pulsed laser ablation,PLA),是一種利用雷射對物體進行轟擊,然後將轟擊出來的物質沉澱在不同的襯底上,得到沉澱或者薄膜的一種手段。簡介 隨著現代科學和技術的...
脈衝雷射沉積薄膜系統是一種用於物理學、化學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2012年12月10日啟用。技術指標 真空室直徑Ф 500mm。主腔室(PLD chamber):本底極限真空度 主要功能 製備半導體材料、沉積複雜...
超高真空脈衝雷射沉積系統是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2019年11月11日啟用。技術指標 主腔體:(1)本底真空度優於5E-9Torr; (2) 配置紅外雷射加熱和電阻加熱雙加熱系 統,最高加熱溫度不低於1100攝氏度;(3) 配置30 keV高...
脈衝雷射沉積設備是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2005年9月1日啟用。技術指標 真空度6.7×10-7Pa ;基板尺寸2 ;最高加熱溫度850℃ ;靶托6個,Φ20mm ;雷射器:Nd:YAG,355nm,10Hz,5ns,200mj/pulse。主要功能 用於高溫...
脈衝雷射濺射沉積系統 脈衝雷射濺射沉積系統是一種用於物理學領域的計量儀器,於2009年12月30日啟用。技術指標 真空室450mm、極限真空1*10-5Pa、襯底最大700℃。主要功能 氧化物薄膜製備。
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(CreaTec LT STM)、原子力顯微鏡 (AR MFP-3D-Infinity)、太陽能電池測試系統、脈衝雷射沉積鍍膜設備、掃描探針顯微鏡、物性測量系統、X-螢光光譜儀、雷射切割機、PECVD氣相薄膜沉積設備、德國真空手套箱、雙室熱蒸發系統、場發射掃描電子...