聚焦離子束雙束電子顯微鏡是一種用於地球科學領域的分析儀器，於2016年10月1日啟用。
聚焦離子束雙束電子顯微鏡是一種用於地球科學領域的分析儀器，於2016年10月1日啟用。技術指標成像解析度0.6 nm @ 15kV-2kV；0.7 nm@ 1 kV；電子束流0.8 pA-100nA；離子切割薄片厚度最優...
電子束聚焦離子束雙束電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器，於2015年4月30日啟用。技術指標 (1)電子束解析度 1、高真空：1nm 30kV (二次電子)； 2.5 nm 30kV (背散射電子)；1.5 nm 15kV (二次電子)； 2.9 nm 1kV (二次電子)。2、低真空：1.5nm 30kV (二次電子)； 3.0nm 3...
在新型的聚焦離子束顯微鏡，已出現的雙束（Dual Beam）的機型（離子束+電子束），在以離子束切割時，用電子束觀察影像，除了可避免離子束繼續 "破壞現場" 外，尚可有效的提高影像解析度，同時也可配備X-光能譜分析儀或二次離子質譜儀，作元素分析之用，多樣化的分析功能使得聚焦離子束顯微鏡的便利性及使用率大幅...
雙束場發射聚焦離子束及掃描電子顯微鏡 雙束場發射聚焦離子束及掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的分析儀器，於2014年2月27日啟用。技術指標 電子束解析度：0.9nm，離子束解析度：4nm。主要功能 製備透射電鏡樣品。
Helios Nanolab G3 UC 是目前世界上非常先進的用於細胞、組織等生物樣品成像的掃描雙束電子顯微鏡：（1）具有Dual Beam—場發射掃描電子雙束（SEM）和聚焦離子束（Focused Ion Beam, FIB）：藉助Dual Beam，FEI AutoSlicerViewer軟體可實現生物樣品在大尺度範圍，自動化連續切片並掃描電子顯微成像，以實現亞細胞水平的...
商用機型有單束( single beam)和雙束（dual beam，離子束+電子束）兩類。商用系統的離子源為液相金屬離子源(liquid metal Ion source，LMIS)，金屬材質為鎵(Gallium，Ga)，因為鎵元素具有低熔點、低蒸氣壓及良好的抗氧化力。離子光學系統主要包括聚焦成像的靜電透鏡系統、束對中器、消像散器、質量分析器和束偏轉...
聚焦離子束電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器，於2014年6月1日啟用。技術指標 電子束解析度(Electron beam resolution)：0.9 nm@15kV，1.4nm@1kV 離子成像解析度(Ion beam resolution)：4nm@30kV。主要功能 Elstar Schottky 場發射 SEM 技術和優異性能 FEI的Tomahawk FIB，具備低至500 V的卓越...
聚焦離子束雙束系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2014年03月31日啟用。技術指標 電子束:解析度： ≤1.0 nm@15KV ，≤1.9 nm@1kV； 放大倍率：12x ～ 1000kx；離子束:解析度： ≤ 2.5nm@30kV； 放大倍率:300x ～ 500kx.。主要功能 雙束系統中場發射掃描電鏡主要用於觀察、分析和記錄材料的微觀...
聚焦離子束-掃描電鏡雙束系統是一種用於地球科學領域的分析儀器，於2015年12月14日啟用。技術指標 1.SEM: 加速電壓0.1 - 30 kV，2.5 nm@1 kV ；2.FIB：離子束解析度5 nm (30 kV, 1 pA)，加速電壓0.5 - 30 kV，電流1 pA~50 nA。主要功能 形貌觀察和製備透射電鏡超薄片。
雙束聚焦離子束微納加工儀是一種用於材料科學、物理學、基礎醫學、化學工程領域的分析儀器，於2011年12月9日啟用。技術指標 電子源: FEG 離子源: Gallium liquid metal 加速電壓： SEM≥30KV FIB≥30KV，束流≥50nA SEM二次電子像解析度: ≤1.2 nm @ 高壓模式 ≤2.8 nm @ 低壓模式 FIB 解析度 ≤7 nm。
場發射電子束/聚焦離子束雙束工作站是一種用於電子與通信技術領域的醫學科研儀器，於2015年12月16日啟用。技術指標 Electron beam: ≤1.0nm@15V，≤1.9nm@1KV;Ion Beam:≤2.5nm@30kV。主要功能 雙束系統中場發射掃描電鏡主要用於觀察、分析和記錄材料的微觀形貌，聚焦離子束用來對樣品進行在微納米尺度下的切割...
本項目擬用脈衝雷射沉積法在不同的基片和緩衝層上製備不同的外延方向、不同的應力狀態的TbMnO3薄膜，以聚焦離子束-電子束組成的雙束納米加工系統為主要操控手段，系統研究Ga離子注入、電子注入、納米尺度等因素引起TbMnO3薄膜阻變效應的物理機制；運用X射線衍射、透射電子顯微鏡、原子力顯微鏡、掃描探針顯微鏡、電子探針、...
實驗四 掃描電子顯微鏡斷口分析 實驗五 電子探針基本結構、工作原理及操作 第2章 掃描電子顯微鏡附屬設備結構、原理及操作 實驗一 能譜儀的基本結構、工作原理及操作 實驗二 電子背散射衍射儀的基本結構與工作原理 實驗三 電子背散射衍射數據採取操作 實驗四 電子背散射衍射數據分析處理 第3章 聚焦離子束系統結構、...
Tecnai™ 透射電子顯微鏡 Tecnai 系列透射電子顯微鏡旨在滿足材料科學, 生命科學和軟物質研究、半導體和數據存儲行業以及世界各地頂級多用戶實驗室對高襯度成像的需求。DualBeam™ 儀器 (FIB/SEM)結合了聚焦離子束和掃描電子顯微鏡。FEI 的雙束 (DualBeam) 儀器結合了聚焦離子束工具的銑蝕功能和掃描電子顯微鏡的成像...
其產品主要有掃描透射電子顯微鏡、電子顯微鏡、聚焦離子束系統、Micro-CT，以及相關分析附屬檔案和軟體，正被套用於醫學、生物、生化、農業、材料科學、冶金、化學、石油、製藥、半導體和電子器件等領域中。作為科學儀器的全球供應商之一，TESCAN主要設計、研發和製造各類儀器並鑽研，在不同領域的套用。TESCAN的產品和解決方案在...
