紅外光譜橢偏儀是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2013年06月17日啟用。
基本介紹
- 中文名:紅外光譜橢偏儀
- 產地:美國
- 學科領域:物理學、材料科學
- 啟用日期:2013年06月17日
- 所屬類別:分析儀器 > 光譜儀器
紅外光譜橢偏儀是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2013年06月17日啟用。
紅外光譜橢偏儀是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2013年06月17日啟用。技術指標(1) 測量範圍:Ψ (0~90º);Δ (0~360º),無死區; (2) 準確性:在2~29 μm光譜範圍內,入射角為90...
IR-VASE型紅外光譜橢偏儀為旋轉補償器(RCE)式布置方式,主要由紅外光源、起偏器、旋轉補償器等部件組成,可測光譜範圍為1.7-30μm。在1-64cm-1範圍內共7種解析度可供選擇。 可測物理量為:固體材料(含薄膜)光學常數、斜入射光譜發射率、半透明介質光譜透射率、薄膜厚度等。與高溫樣品室及控溫模組組合使用...
紅外橢偏儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年12月23日啟用。技術指標 ·Wavelength range: 400 cm-1-6000 cm-1 ;·Separate ellipsometer optics, ellipsometer uses external port of FT-IR instrument ;·Complete accessible FT-IR spectrometer ;·Large samples, maximal sample size 200 mm diameter,...
橢偏儀,是一種用於探測薄膜厚度、光學常數以及材料微結構的光學測量設備。由於並不與樣品接觸,對樣品沒有破壞且不需要真空,使得橢偏儀成為一種極具吸引力的測量設備。基本原理 橢圓偏光法涉及橢圓偏振光在材料表面的反射。為表征反射光的特性,可分成兩個分量:P和S偏振態,P分量是指平行於入射面的線性偏振光,S...
橢偏光譜儀 橢偏光譜儀是一種用於自然科學相關工程與技術領域的物理性能測試儀器,於2015年06月04日啟用。技術指標 掃描波長190nm~2100nm; 標準片測量偏差-0.23A 折射率偏差-0.002 變角度測量。主要功能 測量薄膜材料的折射率、折射率、吸收係數。
寬光譜穆勒橢偏儀是一種用於自然科學相關工程與技術領域的分析儀器,於2015年9月15日啟用。技術指標 光譜範圍:193-1000nm(1000-1700nm可選),光譜解析度:0.5nm,測量時間:1-8s,入射角範圍:45-90度。主要功能 通過覆蓋深紫外到近紅外波段的反射率、透射率、橢偏角、斯托克斯向量、穆勒矩陣等光譜測量,可...
光譜橢偏系統 光譜橢偏系統是一種用於力學、工程與技術科學基礎學科、生物學領域的分析儀器,於2018年3月8日啟用。技術指標 測量橢圓參數(TANψ,COSΔ) 光學常數(n:折射率,k:消光係數)分析 薄膜厚度分析。主要功能 材料/薄膜光學參數。
穆勒矩陣橢偏儀是一種用於信息科學與系統科學、力學、物理學、信息與系統科學相關工程與技術領域的分析儀器,於2017年11月23日啟用。技術指標 1. 光譜範圍:覆蓋深紫外到近紅外波段200-1650nm; 2. 光斑大小:大光斑模式3mm,微光斑模式200μm; 3. 偏振調製技術:複合消色差波片雙旋轉調製; 4. 入射角:45-90...
磁光廣義橢圓偏振(Magneto-optic generalized ellipsometry, MOGE)是一先進紅外光光譜橢圓偏振技術,用來測量在導體樣品中自由電荷載子之特性。藉由外在磁場,便有可能獨立地決定電子密度、光學之電子移動率參數及自由電荷載子之有效質量。在無磁場的狀態下,只可能取得其中兩項自由電荷載子參數。優勢 相較於標準的反射...
1. 片上型光譜橢偏儀關鍵技術研究,華中科技大學自主創新基金,在研 2. 基於紅外橢偏光譜的高深寬比深溝槽結構側壁形貌參數測量方法研究,國家自然科學基金,結題 榮譽與獎項 2013年獲華中科技大學教學競賽二等獎 2014年獲華中科技大學教學競賽一等獎 代表性著作 [1] Xu S, Zhang CW, Wei HQ, and Liu SY, A...
在掃描探針顯微鏡(SPM), 光譜型橢偏儀, 光電子能譜( XPS, UPS) 和掠角反射紅外光譜(RAIR) 在膜材料研究中的套用等方面有較深的造詣。研究方向 1.分子導線的設計與在分子電子學中的套用。2.碳納米管的化學修飾與複合材料技術。3.功能有機材料的表面自組裝與圖形化技術。4.功能化量子點在生物感測器中的套用...
2.7.1 傅立葉變換紅外光譜 66 2.7.2 紫外線-可見光譜 67 2.7.3 恆定光電流方法 68 2.7.4 拉曼光譜 69 2.7.5 橢偏儀 69 第3章 液晶面板設計與驅動 70 3.1 顯示屏的構成 70 3.1.1 顯示區 70 3.1.2 密封區 76 3.1.3 襯墊區 77 3.1.4 特徵標記 78 3.2 玻璃基板上薄膜的邊界條件...
光譜橢偏儀 SE 850 DUV 34 納米加工技術實驗室 矽刻蝕高密度電漿刻蝕機 Plasmalab System100 ICP180 35 納米檢測實驗室 雷射拉曼光譜儀 Renishaw inVia plus 36 納米檢測實驗室 冷場發射掃描電子顯微鏡 Hitachi S4800+EDS 37 納米中心所級服務中心 離子阱質譜儀 amaZon SL 38 納米中心所級服務中心 連續光譜多...