磁控濺射台是一種用於電子與通信技術領域的儀器，於2016年02月08日啟用。
基本介紹
- 中文名：磁控濺射台
- 產地：中國台灣
- 學科領域：電子與通信技術
- 啟用日期：2016年02月08日
技術指標,主要功能,
技術指標
終端壓力：3.0E-7Torr。
主要功能
磁控濺射台。
磁控濺射台
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