雙室磁控濺射台

雙室磁控濺射台是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2013年6月3日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙室磁控濺射台
• 產地：中國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2013年6月3日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

雙腔，4靶材。

主要功能

濺射各種膜。