全自動磁控濺射台

全自動磁控濺射台

全自動磁控濺射台是一種用於物理學、藥學、食品科學技術、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2012年10月25日啟用。

基本介紹

  • 中文名:全自動磁控濺射台
  • 產地:中國
  • 學科領域:物理學、藥學、食品科學技術、環境科學技術及資源科學技術
  • 啟用日期:2012年10月25日
  • 所屬類別:分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器
技術指標,主要功能,

技術指標

不鏽鋼,鋁質腔體 260或500 l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或乾泵 13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源 晶振夾具具有的1 ?的厚度解析度 帶觀察視窗的腔門易於上下載片 基於LabView軟體的PC計算機控制。

主要功能

薄膜樣品製備。

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