相移掩模技術

投影掩模版被一層附加透明層修正以便改變透光區域使光相移180度的技術被稱為相移掩模技術。

基本介紹

• 中文名：相移掩模技術
• 外文名：phase shift mask(PSM)

相移掩模技術（PSM）是1982年發展起來的方法，用來克服光通過掩模版上小孔時發生衍射的有關問題。與異相波的干涉類似恥殃，這備雄頸戰里進行的是相消干涉。衍射到左邊通常是暗區的光，殃邀碑將於右邊透炒重肯光區衍射過來的嬸料享光發生相消干涉。通過相移掩模技術改灶遷戰善了圖像對比度，並且已經成為進雅槳和灑行CD是0.18um及以下精細光刻的關鍵因素。