交替型相移掩模

交替型相移掩模是相移掩模的一種，也被稱為Levenson PSM。

基本介紹

• 中文名：交替型相移掩模
• 外文名：Alternating PSM
• 所屬學科：光學製造、光刻技術

定義

在具有一定周期性的鉻掩模版中，透光圖形之間相間地製備一層光的位相器（即交替的在掩模版透明區域增加或減少一層透明膜，光透過移相器後會產生180度相移）

原理

在曝光時，該掩模版中所有相鄰的透明圖形之間的相位差均為180度，由於光的相干性，因相鄰透光區相位相反，互相抵消產生一個光強為零的暗區，在有移相器圖形與無移相器圖形交界處的不透光的間隙上光的衍射效應被抑制，使原來不可分辨的圖形變成可分辨，從而提高了曝光的解析度。

特點介紹

該移相方式效果最明顯，可使分辨能力提高近一倍，缺點是只適用於周期性較強的圖形。交替式移相掩模同樣也會出現相位衝突的問題，在交替式移相掩模版圖設計中透明區域實際上只有兩種位相可以選擇，不是相移0°，就是180°。