掩模基板 半導體庵模版工藝中,準備用乾製造掩模版的未加塗層的基板材料。
掩模基板 半導體庵模版工藝中,準備用乾製造掩模版的未加塗層的基板材料。 ...... 掩模基板[1] 半導體庵模版工藝中,準備用乾製造掩模版的未加塗層的基板材料。...
受衝擊的靶材原子會沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。光學掩模版工藝過程 編輯 1) 繪製生成設備可以識別的掩膜版版圖檔案(GDS格式)2) 使用無掩模光刻機讀取版圖檔案...
掩模版(mask)簡稱掩模,是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設計圖形,光線透過它,把設計圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質量。在投影...
二元掩模(Binary Intensity Mask,BIM),也稱為雙極型掩模,是指由透光與不透光兩種部分組成的光掩模版。...
掩模保護膜是蒙貼在鋁合金框架上的一層透明薄膜,防止灰塵掉落在掩模有圖形的一側。有了這個薄膜的保護,灰塵顆粒只能掉落在掩模版玻璃的一側或保護膜上。...
《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則(GB/T 16879-1997)》等同採用1994年SEMI標準版本“微型構圖”部分中的SEMI P21—92《掩模曝光系統精密度和準確度的表示...